处理后的污染物在很短的时间内被外部真空泵完全抽走，底材附着力比较差怎么办其清洗能力可达分子级。在一定条件下，样品的表面特性也可以改变。由于采用气体作为清洗处理的介质，可有效避免样品的再次污染。等离子清洗机的清洗新技术和新设备逐渐得到开发和应用。它可以不分处理对象处理不同的衬底，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料，都能很好地通过等离子体处理，因此特别适用于耐热、耐熔凝等对处理工艺要求较高的衬底材料。
对于只有原子层厚度的二维材料来说，底材附着力比较差怎么办plasma清洗机可以较好地清除其表面污染物。plasma清洗材料表面有机物质的原理如下：在真空的环境下，基底材料受到等离子体轰击后，瞬间进入高温环境，基底表面有机物迅速蒸发或升华成气相，快速被击穿并通过抽真空带出反应腔。plasma清洗除具有清洁功能外，还可根据需要改变特定材料表面的性能。
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SiC功率器件在新能源汽车及其支撑领域具有巨大潜力。 (2 )氮化镓氮化镓是一种在微波射频领域不断受到追捧的新材料。由于氮化镓衬底材料生长困难，底材附着力比较差主要通过在国外衬底上外延生长获得。蓝宝石是GaN早期使用的衬底材料，也是比较成熟的材料。大多数用于光电应用的 GaN 器件都是通过这种衬底制造的。两种新的衬底是 Si 和 SiC，GaN-on-Si（硅上氮化镓）和 GaN-on-SiC（碳化硅上氮化镓）。
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氮化镓的衬底材料很难生长，所以它主要通过在异质衬底上做外延生长得到。蓝宝石是GaN初期使用的衬底材料，也是较成熟的材料，大部分光电应用的GaN器件都是通过这种衬底制造的。新兴的两种衬底是Si和SiC，即GaN-on-Si（硅基氮化镓）和GaN-on-SiC（碳化硅基氮化镓）。由于碳化硅与氮化镓的晶格适配较小，氮化镓材料很自然的可以在碳化硅衬底上生长出高质量的外延，但制备成本当然也是岗岗的。
即使在氧气或氮气等惰性气氛中，等离子体处理也可以在低温下产生高反应性基团。在这个过程中，等离子体也会产生高能紫外光。它可以破坏聚合物键并产生表面电离，以及产生的快离子和电子。化学反应提供所需的能量。选择正确的反应气体和工艺参数可以加速某些反应并形成异常的聚合物沉积物和结构。通常选择反应物以使等离子体与基底材料反应，从而产生挥发性沉积物。
对于极性高分子材料表面，不具备形成取向 力和诱导力的条件，而只能形成较弱的色散力，因而粘附性能较差。聚烯烃类材料本身含有低分子量物质，以及在加工过程中加入的添加剂（如增塑剂、抗防老 剂、润滑剂等），这类小分子物质极容易析出、汇集于材料表面、形成强度很低的薄弱界面 层，从而表现出粘附性差，不利于印刷、复合和粘接等后加工。
近年来，市场对品质的要求日益苛刻，同时国际上对环保的要求也越来越严格，我国的很多高密度的清洗工业面临了严峻的挑战，可以说是一次全新的革命，面对前所未有过的局势，作为代替品出现的一些氯代烃清洗剂、水基清洗剂和碳氢溶剂由于分别具有毒性、水处理繁琐、清洗效果较差以及不易干燥、安全性较差等缺点阻碍了国内清洗工业的发展。
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3.后蚀刻处理一般来说，底材附着力比较差在等离子清洗机等离于体干法蚀刻完成后，会引入一步酸性或碱性的湿法清洗以彻底去除等离子体蚀刻在晶圆上形成的副产物从而避免二次反应。GST是一种金属合金，任意一种酸或碱都会造成严重腐蚀，因此GST等离子体蚀刻只能使用浓度较低的酸(或碱)性湿法清洗剂， 对GST蚀刻生成的含金属元素的副产物的清洗效果较差。
