等离子等离子体清洁器（等离子清洗器），一种单张片材电晕处理机又称等离子清洗器，或等离子表面治疗仪，是一项全新的高科技技术，利用等离子体达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫物质的第四态，不属于常见的固、液、气三种状态。施加足够的能量使气体电离，就变成了等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发核素、光子等。
但从环境影响、原料消耗和未来发展来看，一种单张片材电晕处理机干洗明显优于湿洗。等离子清洗发展迅速，在干洗方面优势明显。等离子体清洗逐渐广泛应用于半导体制造、微电子封装、精密机械等行业。2.等离子体清洗机的机理等离子体是一种部分电离的气体，是固体、液体和气体之外的第四种物质状态。等离子体由电子、离子、自由基、光子和其他中性粒子组成。由于等离子体中电子、离子、自由基等活性离子的存在，容易与固体表面发生反应。
选择了等离子清洗机的等离子技术，电晕处理机电极的作用根据工艺要求对表层进行清洗。表面层无机械损伤，无化学溶剂。可去除由脱模剂、添加剂、增塑剂或其他碳氢化合物组成的表层污染。等离子体清洁器诱导聚合是在辉光放电条件下，活化粒子在材料表层形成目标基团，再与单体结合的一种常见的（分子）聚合。结合方式包括分子链的交联或侧联、官能团置换、嵌段聚合等。在等离子体诱导聚合形成聚合物中，单体必须具有双键、三键或环状结构等聚合物结构。
目前广泛采用的工艺主要是等离子体处理器工艺，电晕处理机电极的作用工艺简单、环保、清洗效果显著，对于孔槽结构非常合理。等离子体处理器是指高度活化的等离子体在电场作用下定向运动，与孔壁钻孔污物发生气固两相流化学反应，同时通过气泵排出局部未反应的气体产物和颗粒。
电晕处理机电极的作用
当电子流向表面清洁区时，与吸附在清洁表面的污渍分子发生碰撞，可促使污渍分子分解生成活性羟自由基，有利于污渍分子进一步（活性）反应；此外，质量小的电子比离子运动快得多，因此电子比离子更早到达物体表面并使表面带负电荷，有利于引发进一步的活化反应。二、等离子体发生器在铝表面清洗中的作用当一个阳离子被物体表面带负电荷时，它会加速以获得很大的动能。当发生纯物理碰撞时，附着在物体表面的污垢可以被剥离。
一方面，等离子体清洁器利用其高能粒子的物理作用清洁易被氧化或还原的物体，Ar+轰击污垢形成挥发性污垢，通过真空泵抽走，避免了表面材料的反应；另一方面，氩容易形成亚稳态原子，再与氧、氢分子碰撞时发生电荷转换和复合，形成氧、氢活性原子作用于物体表面。虽然等离子体清洗机采用纯氢清洗表面氧化物效率较高，但这里主要考虑放电的稳定性和安全性。使用等离子清洗机时，选择氩氢混合比较合适。
各种试剂和化学药品配制的清洗液与金属离子反应形成金属离子络合物，从晶圆表面分离出来。氧化物：暴露在氧气和水中的半导体晶圆表面会形成自然的氧化物层。这种氧化膜不仅阻碍了半导体制造的许多步骤，而且含有一些金属杂质，在一定条件下会转移到晶圆上形成电缺陷。这种氧化膜的去除通常是通过在稀氢氟酸中浸泡来完成的。
前者主要有利于电荷的分离和转移，后者有助于可见光的吸收和有源电荷载流子的激发。当金与晶圆碰撞时，也会形成肖特基势垒，这是金纳米粒子与晶圆光催化剂碰撞的结果，被认为是真空等离子体光催化的固有特征。金属与晶圆界面之间产生内部电场，肖特基势垒内或附近产生的电子和空穴在电场作用下会向不同方向移动。此外，金属部分为电荷转移提供通道，其表面充当电荷俘获光反应中心，可增强可见光吸收。
电晕处理机电极的作用
在等离子体中，电晕处理机电极的作用由于电子的速度比重粒子快，绝缘体表面会出现净负电荷积累，即表面相对于等离子体区域有负电位。表面区的负电位排斥后继向表面移动的电子，吸引正离子，直到绝缘体表面的负电位达到一定值，使离子流与电子流相；等到现在。此时绝缘体的表面电位Vf趋于稳定，Vf与等离子体电位之差（Vp-Vf）保持恒定。此时，在绝缘体表面附近有一个空间电荷层，这是一个离子鞘层。
等离子体技术，一种单张片材电晕处理机特别是低温峰等离子体清洗设备技术，在复合材料表面改性的研究中非常活跃，应用尤其广泛。目前，等离子体清洗设备广泛应用于电子、通信、汽车、纺织、生物医药等领域，还广泛应用于半导体元器件、电光系统、晶体材料等集成电路芯片。
