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表 8.2 Cl2 / CH4 / N2 / Ar 在不同流量比下的蚀刻结果运行编号Cl2 / sccm N:/sccm氩气/sccm蚀刻率/（微米/分钟）选择性InP：SiO2有效值/纳米1五0十1.113 28.7：1 > 25 2五3 7 0.493 11.5；1 18.22 3五五五0.407 13.0：1 15.88四五7 3 0.322 9.35：1 1.07五8 3五0.768 17.0：1 > 25 6 8五3 0.673 17.2：1 6.30上述方法均已在ICP机器上实施，早期的RIE机器已进行相关研究，研究压力对磷化铟蚀刻的影响。
而我们居住的地球倒是例外的温度较低的星球。此外，对于自然界中的等离子体，我们还可以列举太阳、电离层、极光、雷电等。在人工生成等离子体的方法中，气体放电法比加热的办法更加简便高效，诸如荧光灯、霓虹灯、电弧焊、电晕放电等等。在自然和人工生成的各种主要类型的等离子体的密度和温度的数值，其密度为106（单位：个／m3）的稀薄星际等离子体到密度为1025的电弧放电等离子体，跨越近20个数量级。
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在电解液等离子抛光技术环节中，广东等离子设备使用方法抛光技术产生的金属颗粒的电磁干扰不能用电导法检测抛光液溶液浓度，为解决这一问题，在实验基础上提出了两种确定抛光技术工艺中硫酸铵抛光液溶液浓度的方法。硫酸铵研磨液溶液浓度不超过2.5wt%后，研磨电流密度显着下降，定期进行检测研磨中的电流值和研磨液温度，判断是否需要补充硫酸铵。
