表面脏污，氧等离子体自由基特别是经机械和湿式化学清洗后仍存在的残留物通常是有机物。很多溶剂无法完全除去的油脂、脱模剂、有机硅。如果表面上仍残留这些物质，则会妨碍所有后续的处理步骤，特别是会影响粘合与涂层。这些物质大多可通过氧气等离子体，还可通过空气等离子体彻底清除。低温氧等离子体处理不仅可以改善材料表面亲水性，也可以提高表面导电性和材料粘接性。
它一般比大多数液体的表面张力要小，氧等离子体自由基这里提到的液体就是组成粘合剂、涂料和油漆的基料。因此，鉴于涂层的原因，使得润湿性较小，从而使粘着程度更小。这是因为大部分塑料具有非极性的特性。在氧等离子体作用下，非极性塑料的表面张力明显提高。由羟基自由基的高活性作用而生成极性桥键，从而构成涂覆液的粘接点。 _等离子体发生器，这样可以提高表面张力，并且促进等离子生成器的湿润。
氧等离子体表面处理对Ito薄膜的影响，氧等离子体处理硅片的作用以提高Ito薄膜的电性能：铟锡氧化物（ITO）作为一种重要的透明半导体材料，不仅具有稳定的化学性质，而且具有优异的透光性和导电性。因此，它被广泛应用于光电子行业。 ITO的导带主要由In和Sn的5s轨道组成，价带主要由氧的2p轨道组成。
因此，氧等离子体自由基改善了器件的饱和电流，改善了器件的电特性。在适当条件下对HEMT的AlGaN表面进行氧等离子体处理，可以有效降低器件的阈值电压，增加器件饱和区的电流，提高器件的大互导增加。它可以有效地用于制备。高性能GaN HEMT器件的应用。。等离子清洗设备等离子表面处理机应用百科：预处理-等离子技术，一种用于清洁、活化和涂覆表面的高科技表面处理机工艺。
氧等离子体处理硅片的作用
因此，由于涂层的原因，大多数塑料的非极性性质导致润湿性低，因此附着力低。氧等离子表面处理机在提高非极性塑料的表面张力方面非常有效，因为由于氧自由基的高活性，在涂层液体中形成了极性桥键。这提高了塑料的表面张力和润湿性，蚀刻塑料增加了表面积，从而提高了附着力。。为什么等离子表面处理后塑料可以提高打印性能？印刷是一种重要的信息交流方式，是美化产品的有效方式。
氮气与其他气体组合构成的等离子体一般会被运用于一些特别资料的处理。真空等离子状态下氮等离子也是呈赤色，在相同的放电环境下，氮等离子会比氩等离子和氢等离子更亮一些。。氧等离子体各种高能粒子对竹炭表面的改性效果研究：等离子体技术是20世纪60年代以来，在物理学、化学、电子学、真空技术等学科交叉基础上发展形成的一门新兴学科。
在等离子体状态下，有高速运动的电子、活性电子、中性原子、分子、原子团（自由基）、电离的原子和分子、未反应的分子、原子等，但这种物质总体上保持电中性。当压力恒定时，由真空腔内的增压器驱动一个高能、混沌增压器，被洗涤物表面受到其他子体的冲击，满足清洗需要。等离子清洗机又称等离子表面处理设备，是一种全新的高科技技术，可以让等离子达到传统清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的状态，也称为物质的第四状态。
等离子体和材料表面改性的机理可以简单解释为：等离子体中各种活性粒子撞击材料表面，在交换能量过程中引发大分子自由基进一步反应，在材料表面引入新的基因团并脱去小分子，该过程导致材料表面性能的提高。研究表明，等离子体作用后材料表面主要发生四种变化：产生自由基。放电空间活性粒子撞击材料表面是表面分子间化学键被打开，从而产生大分子自由基，是材料表面具有反应活性。发生表面刻蚀。材料表面变粗糙，表面形状发生变化。
氧等离子体处理硅片的作用
其基本原理是利用极不均匀电场，氧等离子体自由基形成电晕放电，产生等离子体，其中包含大量电子和正负离子以及具有强氧化性的自由基，它们与空气中的污染物发生非弹性碰撞，附着在上面，并且打开有害物质的化学键，使其分解成单质原子或无害分子，从而净化空气。
快速：气体放电会引起瞬间的等离子体反应，氧等离子体自由基有时会在几秒钟内改变表面特性；低温：接近室温，特别适合加工高分子材料；高能：等离子体是具有异常化学活性的粒子，在温和的条件下，无需添加催化剂即可实现常规热化学反应体系无法实现的反应（聚合反应）；通用性：无论被加工基材的种类，均可加工，如金属、半导体、氧化物，大部分高分子材料都能很好加工；强大的功能：一种只包含高分子材料浅表层（<10微米）的新功能，可以赋予不止一种材料，同时保持其独特的性能；环保型：等离子作用过程为气固相干反应，不消耗水资源，无需添加。
