1）冷等离子体处理可以提高NBR5080的表面润湿性和表面能；2）冷等离子体处理提高了NBR5080的表面粗糙度；3）冷等离子体处理提高了NBR5080与PTFE的结合力。。不同粘接强度高分子材料的冷等离子体表面改性研究；人造板工业是一个先分后合的工艺流程。加工过程依赖于木材胶粘剂，亲水性聚氨酯与sbr通常决定产品质量和生产线效率。因此，木材胶粘剂一直是人造板行业技术进步的标志之一。木材是一种高分子材料。
等离子清洗机金属蚀刻通常使用卤素气体(以含Br、 Cl、F气体为主)，亲水性聚合物作用机理如果应用于磁性存储器的图形化，带来的副作用就是非挥发性蚀刻副产物残留引起的金属腐蚀问题，在磁性存储器核心单元的超薄单层材料蚀刻中表现更为明显。虽然可以通过超350°C的高温来活化蚀刻副产物，相关磁学性质也会显著退化。
另一方面，亲水性聚合物作用机理为了解决多晶硅栅的耗尽层问题，需要对多晶硅膜层进行预先的掺杂，一般为磷掺杂。由于通过等离子表面处理机离子注入的掺杂集中在多晶硅的上半部，多晶硅栅在使用热磷酸去除硬掩膜时，有发生严重的颈缩(Necking)现象。正因为遇到上述问题，多晶硅栅蚀刻在65nm以后转向软掩膜蚀刻方法为主。传统多晶硅栅的蚀刻以卤族气体元素为主，例如 Cl2，HBr。预掺杂的多晶硅在卤族气体蚀刻中同样遇到缩脖现象。
偶联反应SM2O3/Y-AL203的作用明显不同。一般认为CEO2/Y-AL203是甲烷完全氧化成CO的优良催化剂，亲水性聚氨酯与sbr不促进C2烃类的形成。 , SM2O3 / Y-AL2O3 是甲烷氧化偶联反应的优良催化剂，但在 PLASMA 等离子体中其催化活性在本体气氛中尚不清楚。这表明等离子体-催化相互作用的机理与纯催化作用的机理并不相同，因此需要进一步研究等离子体-催化相互作用的机理。
亲水性聚合物作用机理
等离子清洗机的功能主要取决于&ldquo；等离子体中的活性粒子；激活&rdquo；去除物体表面的污渍。从机理上讲，等离子体清洗一般包括以下过程：无机气体被激发到等离子体态；气相物质在固体表面的吸附；吸附基团与固体表面分子反应形成产物分子；分析产物分子形成气相；反应残留物与表面分离。
在等离子体中，存在着以下物质：处于高速运动过渡态的电子，处于激发过渡态的中性原子、分子和原子团（自由基）；电离的原子、分子、分子解离反应时产生的紫外线、未反应的分子、原子等，但物质整体保持电中性。等离子体清洗的机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。
同时这些特性已被完美运用到生物，医疗，手机，LED，半导体，光纤，汽车，零件制造等行业中。不但提高了产品的质量，也大大的增加了产品耐久性等。。半导体封装行业，包括集成电路、分立器件、传感器和光电子的封装，通常会用到铜材质的引线框架，为了提高键合和封塑的可靠性，一般会把铜支架经过几分钟的等离子清洗机处理，来去除表面的有机物、污染物，增加其表面的可焊性和粘接性。
从方程中可以看出，过孔的直径对电感的影响很小，但是过孔的长度对电感的影响很小。继续上面的例子，过孔电感可以计算如下： L = 5.08x0.050 [ln (4x0.050 / 0.010) +1] = 1.015nH如果信号为1ns，其等效阻抗为： XL = πL / T10-90 = 3.19Ω当高频电流流动时，这种阻抗是不可忽视的。
亲水性聚合物作用机理
如果是去除电路板上的胶水残留物，亲水性聚合物作用机理则需要使用等离子蚀刻机。这个设备有一定的技术含量，一般的小厂做不到。等离子清洗机的作用不是清洗油污，而是对物体表面进行修饰，以提高物体表面的附着力。很多材料，如玻璃、硅胶、塑料等高分子材料，如果直接喷涂、电镀，操作效果非常差。如果用等离子体清洗物体表面，并对这些物体表面进行改性，粘附力就大不相同了。
等离子清洁器表面清洁可去除牢固附着在塑料表面上的细小灰尘颗粒。通过一系列的反应和相互作用，亲水性聚氨酯与sbr等离子体可以完全去除物体表面的这些尘埃颗粒。这可以显着降低汽车行业等对质量要求较高的涂装作业的报废率。通过一系列微观层面的物理和化学作用，等离子清洗机的表面清洗作用提供了精细、高质量的表面。
