这种工艺还会产生蚀刻（效）果，增加陶瓷颜料附着力可以使样品接触面粗糙，形成多个微坑，增加样品接触面粗糙比例，提高固体接触面的粘和渗透性能。2）等离子体表面处理仪的激发微粒间的键能等离子体中颗粒的能量在0-20ev之间，聚合物中的大部分键在0-10ev之间。通过等离子体表面处理仪可分开其表面的化学键，从而形成新的反应键能。等离子体中的自由基与这些键形成网状交联结构，大大提高了表面活性。
在线式等离子清洗机实际上是由多台独立的等离子清洗机组成，增加陶瓷颜料附着力形成全自动运行模式，既可与流水线配套使用，又可与上下游生产工序配套。这种设备在一定程度上大大提高了工业生产中的生产率。这种设备有一个很大的优点，就是在原有等离子清洗技术的前提下，增加了装卸料、物料传输等全自动操作的功能，不仅可以精细化处理，而且避免了二次污染，直接进入下一道工序，保证了处理的有效性。
对于电子来说，增加陶瓷颜料附着力这种能量对应的温度是几万度(K)。然而，由于弟子的质量很大，很难被电场加速，所以温度只有几千度。这种等离子体被称为低温等离子体，因为气体粒子的温度很低。当气体处于高压状态，从外界获得大量能量时，粒子之间的碰撞频率大大增加，各粒子的温度处于基本相也就是说Te与Ti和Tn基本相同，我们称这种条件下得到的等离子体为高温等离子体，太阳就是其自身领域中的高温等离子体。
对甲烷转化而言： 因d值增加所导致的高能电子的平均能量降低和等离子体有效区域增加的作用是不一致的，增加陶瓷颜料附着力前者不利于甲烷活化和转化，后者则提高了甲烷转化率，共同作用的结果是甲烷转化率随放电间距增加呈峰形变化。
增加陶瓷涂料附着力
物质从固体变成液体再变成气体的过程，从微观上看就是物质中分子能量逐渐增加的过程。如果继续向气体施加能量，气体中分子的运动速度会进一步加快，形成由离子、自由电子、激发分子和高能分子碎片组成的新的物质聚集态，这就是所谓的物质第四态--“等离子体态”。
处理温度较高时，表面特性变化较快，极性基团会随着处理时间的延长而增加；但时间过长，则可能在表面产生分解产物，形成新的弱界面层。在冷等离子体装置中，两个电极布置在密封容器中形成电场，配合真空泵实现一定程度的真空，随着气体越来越稀薄，分子之间的距离和分子或离子自由运动的距离越来越长。在电场作用下，它们碰撞形成等离子体，等离子体会发出辉光，因此称为辉光放电处理。
等离子蚀刻机又称等离子蚀刻机、等离子平面蚀刻机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子蚀刻机技术是干式蚀刻的一种常见形式，其原理是暴露在等离子体气体形成的电子区域，产生等离子体并释放出高能量的电子气体，形成等离子体或离子，当等离子体原子受到电场加速时释放出足够的力来接近材料或蚀刻表面，从而形成一个驱动力。在一定程度上，等离子体清洗实际上是等离子体刻蚀过程中的一种轻微现象。
也就是说，在不加电压的情况下，等离子刻蚀的源漏可以看成是相互连接的，所以晶体管就失去了自己的开关功能，不可能实现逻辑电路。 从目前来看，7NM工艺是可以实现的，5NM工艺也有一定的技术支持，但3NM是硅半导体工艺的物理极限。因此，5NM之后等离子刻蚀工艺中的硅替代品很早就引起了各大公司和研究机构的关注。
增加陶瓷涂料附着力
1.等离子表面处理设备的机理等离子体包括气体分子、电子、大星离子和大量受激中性原子、自由基和等离子体发出的光。等离子清洗是离子、电子、受激原子、自由基及其发出的光与被清洗表面上的污染物分子发生反应以最终去除污染物的过程。二、等离子表面处理设备杀菌消毒技术的使用低温等离子消毒技术具有很大的优势，增加陶瓷涂料附着力基本集中在干热消毒、高压蒸汽消毒等其他杀菌消毒技术上。消毒杀菌时间短。
(C, H, O, N) + (O + OF + CO + COF + F + E ) & RARR; CO2 & UARR; + H2O & UARR; + NO2 + 化学：HF + SI & RARR;SIF+H2HF+SIOSIF+H2O在等离子体化学反应中起化学作用的粒子主要是阳离子和自由基粒子。
