等离子体处理设备与燃烧处理相比，烟雾为什么附着力强的原因不损伤试样，还可以对整个表面进行非常均匀的处理，无有毒烟雾，也可以对试样进行盲孔和缝隙处理。三、表面刻蚀在等离子体刻蚀中，被刻蚀的材料被衬底的作用汽化(例如，当用氟刻蚀硅时)。机体和基料气化由真空泵抽出，其表面连续被新鲜机体覆盖。
本发明是根据低温等离子刻蚀机净化的基本原理和机械离心的基本原理设计的。等离子刻蚀机的基本清洗原理是在真骨腔内，附着力强的氧化物高频开关电源在相应的工作压力下浮动，形成高能混沌等离子体，根据等离子体对被刻蚀的产品表面进行清洗。 .实现清洁的过渡。等离子体是凝聚态物理。当高能电子与石油烟雾分子碰撞时，会发生一系列基本的物理化学作用，伴随着各种特定的氧自由基和生态氧，或臭氧分解形成的原子氧，在此过程中形成。行动。
通过改变叶片的角度和形状，附着力强的氧化物烟尘分子在叶轮盘和叶片上碰撞并堆积。油烟呈颗粒状油雾形式，通过离心力抛入箱内壁，从泄漏的油管中排出。 2、高（效）过滤消音段：经过前端处理后，大部分油烟被去除，大部分逸出的微米级烟雾在高（效）过滤段（粗滤和细滤）处理后被过滤过滤）。将完成。过滤），剩余的亚微米油雾颗粒，以及烟气中的有毒有害物质和异味，进入冷等离子净化段。本实用新型具有吸音降噪功能，有效控制整个装置的噪音。
例如，附着力强的氧化物有机污染物可以通过与污染物反应产生二氧化碳、一氧化碳和水的氧等离子体来有效去除。一般来说，化学反应对消除有机污染物效果更好。 3）氢气：氢气可用于去除金属表面的氧化物。通常与氩气结合使用以提高去除率。通常，氢气的可燃性是一个问题，氢气的使用量非常少。一个更大的问题是氢的储存。氢气发生器可用于从水中产生氢气。然后删除可能有害的。 4）CF4/SF6：氟化气体广泛用于半导体行业和PWB（印刷电路板）行业。
附着力强的氧化物
撞击力足以去除表面上的任何污垢。然后这些气态污物通过真空泵排出。2)氧气:化学工艺中等离子体与样品表面上的化合物反应。例如,有机污染物可以有效地用氧气等离子去掉,这里氧气等离子与污染物反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水。一般地说,化学反应清除有机污染物效果更好。3)氢气:氢气可供去除金属表面氧化物使用。 它经常与氩气混合使用,以提高去除速度。一般人们担心氢气的易燃性,氢气的使用量非常少。人们更大的担心是氢气的存储。
下面就让我们一起来了解下等离子清洗机清洗方式的选择和不同激发频率的差异：等离子清洗机清洗方式的选择以物理反应为主的等离子清洗，其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性:缺点就是对表面产生了很大的损伤，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。
特别是随着人们对室内空气质量的日益关注，室内挥发性有机化合物含量的增加，VOCs控制技术的研究已成为世界各国科学家关注的热点之一。VOCs的控制技术基本上分为预防措施和控制措施两大类，目前主要研究的是基于末端治理的控制措施。
其中有电极的等离子体炬主要有两种，一种工作在转移弧（transferred），一种工作在非转移弧(non-transferred)。其区别在于是否将所要加工的工件作为一个电极，若将加工工件作为一个电极则是工作在转移弧，否则是工作在非转移弧。
烟雾为什么附着力强的原因
完全电离等离子体(=1)和强电离等离子体(1> >0.01)和弱电离等离子体(<0.01)。按粒子密度可分为密集电离子等离子体(粒子密度n为10^5~18cm-3)和薄等离子体(粒子密度n为10^12~ 14cm -3)。按热力学平衡等离子体的分类可分为完全热力学平衡等离子体、局部热力学平衡等离子体和非热力学平衡等离子体。
高频高压等离子体发生法在感应线圈上施加高频电场时，烟雾为什么附着力强的原因部分空气电离产生的带电粒子高速运动，与气体原子两次碰撞形成电离，在垂直于磁场方向的截面上形成封闭的环形涡流。根据涡流效应，电流频率越高，磁通变化率越大，感应电动势越大，涡流效应越显著，等离子体束流越稳定。由于高频交流电的涡流效应，等离子体束具有集肤效应。电流频率越高，穿透深度越小，趋肤效应越明显，等离子体中带电粒子越集中。
