广泛应用于等离子清洗机表面性能活化；1.等离子清洗机表面活化/清洗；2.等离子清洗机处理后粘连；3.等离子清洗机蚀刻/活化；4.等离子清洗机去除胶水；5.等离子清洗机喷漆（亲水性、疏水性）；6.等离子清洗机增强结合；7.涂层等离子清洗机；8.等离子清洗机灰化及表面改性，氯醚树脂对镀铝膜附着力可提高原料的渗透性，使各种原料得到涂层，有效增强附着力和结合力。
等离子清洗机在光刻胶去除中的详细应用：等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/抗蚀剂/聚合物剥离、晶圆凸块、静电去除、介电蚀刻、有机物去污、晶圆减压等。等离子清洗机不仅可以彻底去除光刻胶等有机物，氯醚树脂对金属附着力还可以活化和增厚晶圆表面，提高晶圆表面的润湿性，提高晶圆表面的附着力。 与传统设备相比，晶圆光刻胶等离子清洗机具有诸多优势，且设备成本不高。此外，清洗过程的缓和连贯反应不消耗水资源，也不需要使用更昂贵的有机物。
对高分子材料进行表面改性以实现高性能或高功能是经济有效开发新材料的重要途径。高分子材料应用于日用品、汽车、电子等行业时，氯醚树脂对镀铝膜附着力由于表面能低，可能会出现成品性能不足的问题。等离子体处理可以改善高分子材料的表面性能，包括可染性、润湿性、印刷适性、附着力、抗静电性、表面固化性等，既提高了产品质量，又拓宽了材料的应用领域。等离子体技术用于纤维表面改性也引起了广泛的关注。
常压等离子体清洗机是利用等离子体系统中的等离子体激活空气等离子体而生产的。等离子体刻蚀产生的系统将与氧气一起工作。氧气常用于清洁非金属材料，氯醚树脂对镀铝膜附着力如玻璃、塑料和聚四氟乙烯。和其他类型的等离子体像散装一样，氧气可以清洁有机物并修饰其表面。等离子体发生器会清洁塑料样品的表面，增加其附着力。如果氧等离子体与氩混合，也可用于清洗金属表面。氩把氧分子从金属中分离出来以防止氧化。。
氯醚树脂对金属附着力
经过电晕处理后，塑料表面层的交联结构比其内层的交联结构减少，因此其表面层的功能团有较高的移动性。所以，在储存中，不少塑料出现电晕处理效(果)的衰退，添加剂由内部向表面迁移，也是使表面能下降，影响附着力的因素，这种负面影响无法完(全)抑制。实际上相对湿度也会影响电晕处理的效(果)，湿度是去极化剂，但由于影响并不严重，往往在测试误差范围之内，被忽略不计。如果采用连机电晕处理，则更可不必考虑。
需要引申的是，这些亲水性基团会与空气中的氧气发生反应，随着时间的推移，其基团会逐渐减少、消失，这也意味着等离子体处理提高的亲水性、附着力、附着力会随着时间的推移而减弱甚至消失，这就是等离子体处理的时效性，这与等离子体涂层不同。目前，等离子体治疗的时效问题尚无根本解决方案。常用的方法是通过适当增加处理时间和注意材料处理后的贮存条件来延长处理时效，然后尽快进行下一个工艺步骤。
等离子体涂层工艺复合(复合)(等离子体辅助CVD)、膜组成多样化(从TiN、TiC二元膜到TiAIN、TiCN、TiAI)、膜结构多样化(从TiN、TiC等单层到TiC-Al2O3-TIN等多层膜)、膜组成和显微结构梯度化、膜晶粒纳米化(五化)。为改进数控刀片特性，选用等离子体对硬质合金刀具数控刀片和陶瓷刀具进行表面改性。
同一个批次(lot)中的25片晶圆，由于位置、顺序等细微的区别，良率也会不一样，但一般不会有大的差异。良率也会随着生产线上机台参数随时间的漂移而产生波动，有时一个大的偏差(variation)或异常(excursion)会导致良率骤降。长期稳定在高水平的良率是一条生产线成熟的标志。对于工艺引起的器件失效，按照失效特征可以分为参数性(parametric）和功能性(functional)失效。
氯醚树脂对镀铝膜附着力
这是一种有助于保护环境的绿色清洁方法； 3.在高频范围内，氯醚树脂对金属附着力高频产生的等离子体方向性强，能穿透物体的微孔和凹痕，特别适用于电路板的制造。清洁盲孔和微孔。4、整个清洗过程可在几分钟内完成，具有效率高的特点。 5、等离子清洗机的主要技术特点是：它可以加工各种板，无论加工目标是什么。金属。半导体。氧化物和高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯基、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子等离子表面处理机）可以采用等离子处理。
而超声等离子则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果佳，氯醚树脂对金属附着力典型的等离子体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体清洗；氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。 典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。
