Langmuir提出了等离子体表面处理的概念，油漆附着力拉开法检测标准给出了等离子体的定义，并给出了等离子体的名称，指出了研究等离子体的实验和理论方法。首先，用探针对等离子体参数进行诊断。到20世纪30年代，等离子体表面处理已经成为一个研究对象，当时对等离子体研究的兴趣主要与气体放电仪器(汞弧整流器、充气二极管、三极管[闸流管]、稳定二极管)的开发有关。
干扰后续制造的塑料添加剂也可以通过等离子体去除，附着力拉拔仪器而不会在此去除过程中破坏或改变基底的性能。此外，等离子清洗机还可用于敏感仪器部件或植入物表面的清洗。
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等离子放电激发产生大量高能电子与甲烷分子发生非弹性碰撞，附着力拉拔仪器将稳定的甲烷分子分裂成不同的活性基团，它们相互结合形成C2烃类产物。...从能量上看，在等离子体的作用下，高能电子（1-20 eV）的能量足以破坏CH4分子的CH键（CH键的平均键能为4.3 eV， CH3.-H的解离能为4.5 eV)eV)，在气相中形成CHx(x=0-3)自由基。 CHx自由基在容器壁和电极等固体表面上进行定向重组形成产物。
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表面等离子体处理设备的等离子体剥离使用了优秀的组件和软件，可以轻松控制工艺参数，其过程监控和数据采集软件可以实现严格的质量控制。这项技术已经成功。适用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电子器件、电子器件、MOEMS、生物器件、LED等领域。加工前治疗后研究发现，硅片表面在处理前残留大量光刻胶，经表面等离子体处理设备等离子体脱胶处理后，表面光刻胶全部去除，效果很好。。
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1. CO2分子与高能电子的非弹性碰撞； 2.系统中的 CHx 和 H 等活性物质会激活 CO2； 3.催化剂吸附 CO2 分子，与 C-0 结合，促进 CO 键的断裂和 CO。并产生活性O原子。显然，在等离子体催化的联合作用下，路径 3 对于 CH4 和 CO2 的转化无疑是重要的。等离子体中催化剂的活化主要取决于与高能电子的碰撞。
等离子清洗相对于湿法清洗的优势体现在以下几个方面： 1、等离子清洗后，被清洗物非常干燥，可以直接清洗。过程，提高工作效率。 2、我们不使用三氯乙烷等有害污染物，是一种有助于保护环境的绿色清洁方法。 3.高频等离子体不同于激光等直射光。孔和凹痕的内部完成清洁。这是一项任务，因此您不必过多考虑要清洁的物体形状的影响。并且这些难清洗部位的清洗效果等于或优于氟利昂清洗的效果。
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