近几十年来人们在荷叶，微纳结构的亲水性情况水黾腿，蝴蝶翅膀等自然界中超疏水性组织和器官的启发下，研究了各种各样的超疏水纳米涂层材料，超疏水纳米涂层材料的设计和研发的目标不仅在于模仿生物的功能结构，更主要的是制备组分和结构均可调的超疏水表面。超疏水纳米涂层材料具有特殊微纳米结构，因此有疏水自清洁性，防污染等一系列优异性能，同时在强度、耐热、耐酸碱等性能方面又十分优异的新材料。
3、运行简单、安全。4、设计简洁、美观。5、产品性价比高。微波等离子体去胶机是半导体行业必不可少的设备，微纳结构的亲水性情况从事微纳加工工艺研究，主要用于半导体及其他薄膜加工工艺过程中，各种光刻胶的干燥去除、基片清洗、电子元件的开封等。研究方向：等离子体表面改性，有机物质表面等离子清洁，等离子体蚀刻，等离子体灰化，增强或减弱浸润性等。
等离子清洗过程涉及许多影响颗粒并直接影响去除效果的复杂物理过程，微纳结构亲水性如等离子的产生和沉积能量的积累。直径为10～2纳米的颗粒分布在硅衬底表面，除极小的纳米颗粒外，大部分颗粒在等离子体的作用下被去除。等离子冲击波对去除微纳米颗粒的影响非常明显。直径大于 0.5 μm 的颗粒被完全去除，但小于该尺寸的颗粒基本去除了原始数量的 50% 左右。
在集成电路或MEMS微纳米加工前道工序中，微纳结构的亲水性情况晶圆表面会涂上光刻胶，然后光刻，显影，但光刻胶只是图形转化的媒介，当光刻后在光刻胶上形成微纳米图形后，需要进行下一步的生长或刻蚀的工艺，之后需要用某种方法把光刻胶去除。等离子清洗机又称等离子体去胶机可实现此功能。
微纳结构的亲水性情况
等离子清洗机特别用于半导体封装和组装、等离子处理解决方案 (ASPA)、晶圆级封装 (WLP) 和微机械 (MEMS) 组件。等离子清洁剂活化处理的应用包括改进清洁、引线键合、除渣、集结、活化和蚀刻。。在集成电路和MEMS微纳加工之前的制程中，晶圆表面涂有光刻胶，然后进行光刻显影，但光刻胶只是图形转换的介质。光刻之后，在光刻胶上形成微纳图案后，必须进行下一步的生长或刻蚀，然后以某种方式去除光刻胶。
等离子清洗器活化处理应用包括改进的清洗、铅键合、除渣、团块粘合、活化和蚀刻。。在集成电路或MEMS微纳加工的前工序中，晶圆表面会涂覆光刻胶，然后进行光刻和显影。然而，光刻胶只是图案转换的介质。光刻后的光刻胶上形成微纳图案后，需要进行下一步的生长或蚀刻工艺，然后通过某种方法去除光刻胶。等离子清洗机，又称等离子除胶机，可以实现这一功能。等离子体清洁器利用射频或微波产生等离子体，同时引入氧气或其他气体。
处理时间越长，与水的接触角越小[13-15]，对CF4、CH2F2等含氟单体进行等离子体处理可以使高分子材料表面氟化，增加其疏水性[15]。 HSIEH 等人。 [16]发现未经处理的PET薄膜与水的接触角为73.1°，AR等离子体处理5分钟。测量一天后，与水的接触角下降到33.7°，并且随着储存时间的延长接触角缓慢增加，说明治疗效果随时间下降。放置10D后，接触角增加到41.3°。
环保水性涂料工艺是许多企业涂装过程中生产的核心环节。大气等离子表面清洗设备的应用，为水性涂装提供了可能。 大气等离子表面清洗设备的预处理还可以去除表面的油污和灰尘，增强材料的表面势能。
微纳结构亲水性
2.等离子清洗对蓬松纺织品能带来显著的加工效果等离子体清洗机产生的等离子体会对纺织材料表面产生衰变、交换、热聚合、聚合物等多种行为。此外，微纳结构亲水性在纺织商品货物操作程序中，等离子体中的化学分子、分子结构和正离子渗入纺织材料表面，可以使纺织材料表面的高分子化合物解链并带来物理化学反应，从而保证表面离子注入和钝化处理，从而提高纺织材料之间的吸水性、柔韧性、附着力和滑动摩擦。
等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，微纳结构的亲水性情况但物质在总体上仍保持电中性状态。在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面．以达到清洗目的。真空等离子清洗的优势 :等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。
