一种是13.56KHZ高频电源。该电源产生高等离子体密度、软能量和低温。功率通常为1-2KW。几百瓦的很多是N2电源，kh560附着力另外一个是40KHZ的中频电源，跟射频电源正好相反。等离子体的密度不高，但强度高，能量高，高度高，大功率可达几十千瓦，理论上几百千瓦，常用于除渣和蚀刻。将会完成。如果真空等离子设备使用中频电源，则需要加水。冷却。它也是PLASMA设备中常用的电源。 RF等离子设备的温度与正常室温相同。
正常情况下，kh560附着力材料在房间内加工，频率为40KHz，一般温度小于65°，机内有强力冷却风扇，加工时间不长，材料表面温度与房间相匹配温度。如果频率为13.56MHz，通常小于30°。因此，在处理容易受热变形的材料时，真空等离子清洗机是合适的。四。产生阳离子的条件不同大气压等离子清洗机依靠气体和产生阳离子的气压约为0.2mpa。真空等离子型等离子吸尘器使用真空泵。
真空等离子清洗机技术参数：电源频率：13.56MHz/40KHz（可选）真空泵：油泵/干泵+罗茨组合腔体材质：进口316不锈钢/铝合金（可选）气体流量：0 -500ccm燃气管道：2通道（可增加）控制方式：PLC+触摸屏真空等离子清洗机的技术优势： 1）待清洗物体经过等离子处理后干燥。干燥后，硅烷kh560对铜附着力它干燥。
通过真空等离子设备聚合可以从有(机)硅单体中获取类硅烷薄膜。将SiCHO复合物用以血液过滤器和pp聚丙烯的中空纤维膜上，kh560附着力以包覆活性炭颗粒。将病人动脉内的血液循环导入血液灌流器中，使血液中的毒物、代谢物进行吸附、净化，然后再输回体内。其中吸附剂主要有活性炭、酶、抗原、抗体等。
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一种等离子体沉积的硅化合物，使用 SIH4 + N2O（或 SI (OC2H4) + O2）产生 SIOXHY。气动压力 1-5 Torr (1 Torr & ASYMP; 133 Pa)，输出为 13.5MHZ。 SIH4+SIH3+N2用于氮化硅沉积，温度300℃，沉积速率180埃/分钟。非晶碳化硅薄膜是通过添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。
利用化学气相沉积(HDPCVD)制备高密度等离子体源（如电感耦合等离子体(ICP)、电子回旋共振等离子体(ECR)或螺旋波等离子体（helicon））,激发含硅烷、氧气和氩气的混合气体。以衬底为阴极，等离子体中的高能正离子会被吸引到晶体表面，然后氧与硅烷反应生成氧硅烷，通过氩离子溅射将氧硅烷去除。印刷线制版技术是半导体制造中常用的技术，有两种，相辅相成。
Film Roll 移动高分子膜的PLASMA处理技术，去除（去除）表面污渍，轻松打开高分子材料表面的化学键成为自由基，与等离子体中的自由基、原子、离子等相互作用。 .该反应产生了新的官能团，例如羟基 (-OH)、氰基 (-CN)、羰基 (-C = O)、羧基 (-COOH) 或氨基 (-NH3)。 .很快。这两组化学基团是提高附着力的关键。
通过电极端子和显示器经过清洗工艺后，提高了偏光膏的成品率，大大提高了电极端子与导电膜之间的附着力，从而提高了产品的质量和稳定性。随着液晶显示技术的飞速发展，液晶显示制造技术的极限不断受到挑战和发展，已经成为代表先进制造技术的前沿技术。在清洗行业，对清洗的要求越来越高，传统的清洗已经不能满足要求，特别是在军工技术和半导体行业。。
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在手机行业应用低温等离子体发生器(TWC)主要是清洗外壳注塑过程中的水果油，kh560附着力较大限度(IP)外壳表面，加强其印刷，涂层粘合剂，如水果(TWC)，涂层与底盘基体之间的强连接，更好的涂层水果(TWC)，其中涂层与镁基具有良好的附着力，涂层果(TWC)更显着，塑料套管的耐磨性大大提高。。
等离子体设备可用于光伏电池的清洗、蚀刻、涂层、灰化、材料表面活化改性等，kh560附着力光电材料可根据等离子体处理获得润湿专业能力，增强附着力、附着力等，同时去除有机废弃物。确保光伏电池组件生产过程中的产品质量符合技术要求。等离子自动化处理改造后，提高了生产线的自动化程度，减少了繁琐的工作，缩短了生产周期，实现了元器件等离子处理的机械化作业，有效提高了等离子清洗效果。
