成本低：设备简单，高附着力uv喷涂白底操作维护方便，用少量气体代替昂贵的清洗剂。此外，没有废液成本。四。操作更复杂。它可以穿透毛孔和凹坑，完成清洁工作。五。应用范围广：-等离子清洗设备可以处理大多数固体化学品，因此其应用范围广等。 6.-等离子清洗装置的表层成分可以快速改变而不影响整体相特性。以上信息似乎是我最喜欢的。如有缺陷，请指出。。
工艺参数。等离子体表面清洗设备的工作特性是活化键能的交联作用、材料表面轰击的物理作用和形成新官能团的化学作用，高附着力uv喷涂白底主要包含材料表面清洗、活化、蚀刻和涂覆四大特性。一、等离子体清洗设备的特点——表面清洗，顾名思义就是清除产品表面的污染物，主要是普通的清洗水无法彻底清洗设备表面的污染物，只对内部无创，去除产品表面的弱键以及典型的- CH基类氧化物和污染物，为下一道工序做准备。
另外由于三维立体鳍部的存在，高附着力uv喷涂白底其顶部以上部分和顶部以下部分的多晶硅栅蚀刻环境有所不同，因此等离子表面处理仪蚀刻过程中为了形成理想的多晶硅栅剖面形貌， 通常会把高选择比的软着陆步骤拆分成几步以达到优化多晶硅剖面形貌的目的。由于源漏极的外延直接在鳍部形成，如此便意味着FinFET的多晶硅蚀刻中的鳍部损耗相比平面结构的衬底硅的损耗变得不是特别重要。
氩气和氦气性质安稳，高附着力uv喷涂白底并且放电电压低(氩原子的电离能E为15.57 eV)易构成亚稳态的原子，一方面等离子清洗机运用其高能粒子的物理作用清洗易被氧化或复原的物件, Ar+炮击污物构成挥发性污物被真空泵抽走，避免了外表资料发生反响;另一方面运用氩气易构成亚稳态的原子，再与氧气氢气分子碰撞时发生电荷的转化和再结合，构成氧氢活性原子作用于物体外表。
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由于等离子体的方向性差，它可以深入物体的毛孔和凹陷处进行清洁，因此不需要过多考虑被清洁物体的形状。而这些难以清洗的零件的清洗效果与氟利昂清洗效果相近甚至更好;五、采用等离子清洗，清洗效率可显著提高。整个清洗过程可以在几分钟内完成，因此具有收率高的特点;六、等离子体清洗需要控制真空度Pa左右，这种清洗条件容易实现。
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