等离子表面处理机由 Irving Langmuir 于 1928 年首次发现。等离子并不少见：事实上，油墨附着力失败对照表图片它很常见。宇宙中超过 99% 的可见物质处于等离子体状态。可以在地球上观察到的等离子体的自然形式是闪电，或出现在北极和南极的极光。日食期间在太阳周围观察到一个明亮的光晕（日冕），这也是一种等离子体。随着能量输入的增加，物质的状态从固态变为液态再变为气态。当放电为气体增加能量时，气体变成等离子体。
然而，附着力失效形式其极低的表面活性和优异的非粘附性使其难以与基材混合并限制其使用。等离子蚀刻机又称蚀刻机、等离子表面蚀刻机、等离子表面处理设备、等离子清洗系统等。等离子刻蚀机的技术是干法刻蚀的一种常见形式。其原理是暴露于电子域的气体形成等离子体，产生离子，放出由高能电子组成的气体，形成等离子体或离子。在电场的情况下，释放的力足以粘附到材料或蚀刻表面，并与表面的驱动力相结合。
为了氧化，附着力失效形式它分解并最终以 CO2 和 H2O 的形式排放。低温等离子净化设备的特点★ 净化效率高，性能稳定。 ★ 设备风阻低至300Pa以下，无需增加通风设备，投资小。 ★ 维护方便、成本低、功耗低。 ★ 安全可靠，装置采用开式卸料，无封闭高压高温区。 ★ 使用寿命长，安装方便，全自动操作。 ★ 处理空气量超过3000m3/h至80000m3/h。低温等离子净化装置的使用方法 低温等离子净化装置的操作非常简单。
它是非固态、液态和气态。等离子体属于宏观电中性电离气体，附着力失效形式其启动运动主要受电磁力支配，并表现出明显的集体行为。低温等离子体的电离率低，电子温度远高于离子温度，离子温度甚至可以相当于室温。因此，低温等离子体是非热平衡等离子体。低温等离子体中存在大量活性粒子，它们比普通化学反应产生的粒子种类更多、活性更强，更容易与材料表面发生反应，因此被用来修饰材料表面。
油墨附着力失败对照表图片
等离子体表面处理机理它主要依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污染物。气体被激发成等离子体状态；重颗粒撞击固体表面；电子和活性基团与固体表面反应分解成新的气相物质离开表面。
主要用于热核发电。典型的聚变反应是（1）氘-氘（DD）反应和（2）氘-氚（DT）反应。 & EMSP; & EMSP; 聚变反应产生的粒子具有很高的能量，可以将这种能量转化为热能发电。聚变电源具有清洁和便宜的优点。最重要的是，它的燃料氘来自海水，世界上的氘储备可供人类享用数百亿年，是其他任何能源都无法比拟的。 & EMSP; & EMSP; 等离子体必须非常热才能实现热核聚变反应。
随着工艺节点的不断缩小，为了经济利益，半导体企业需要在清洗工艺上不断取得突破，提高清洗设备的参数要求。有效的无损清洗对寻求先进工艺节点的制造商提出了严峻的挑战，尤其是10纳米和7纳米以下芯片的芯片生产计划。为了扩展摩尔定律，芯片制造商已经习惯了更复杂、更细粒度的 3D 芯片架构，不仅可以去除平坦晶圆表面的小随机缺陷，还可能导致损坏和数据丢失。你必须能够降低产值和利润。
这种用于等离子清洁器表面处理机的低温蚀刻方法源于蚀刻高纵横比硅结构的需要，主要用于形成非常高纵横比的硅材料结构。这种结构广泛用于微机电系统（MEMS）的前端工艺和后端封装的硅通孔（TSV）。近年来研究表明，等离子清洗机表面处理机的低温等离子刻蚀不仅可以形成所需的特殊材料结构，而且可以减少刻蚀过程中的等离子损伤（plasma-induced damage，PID）。
附着力失效形式
