AF--防指纹中文为防指纹，附着力 聚氨酯AF等离子喷涂机又称AF喷涂机、AF等离子喷涂机、防指纹等。防沾污中文意为防污，如等离子喷涂机又称等离子涂层机、防油低温等离子发生器、喷涂机等。AG--防眩光，中文称防眩光，又称AG等离子喷涂机、防眩光等离子喷涂机、防眩光等。中文是反射增强，AR等离子镀膜机又称AR喷涂机。反射式等离子镀膜机、反射式等离子喷涂机等。。
抛光涂胶可以有效解决盒、盒涂胶时的涂胶问题，附着力 聚氨酯但仍存在以下问题。 1、抛光时刮下的纸毛和部分纸粉污染机器周围环境。机械设备； 2.由于磨石的线速度方向与产品的运行方向相反，会影响部分产品的运行速度，降低工作效率； 3.涂层已被刮掉，但只有一层UV涂层和少量纸面涂层。适用于高档药盒、化妆品盒胶盒的成本不是很低，因为普通制造商使用普通胶水胶盒并不容易。
真空等离子清洗机有几种称谓，涂层附着力 长 时间 脱又称真空等离子、清洗机、清洗仪器、蚀刻机，如表面处理机、等离子清洗机、等离子清洗机、除胶机、等离子清洗设备。等离子体清洗机/等离子体处理器/等离子体处理设备广泛应用于等离子体清洗、等离子体刻蚀、隔离胶、等离子体涂层、等离子体灰化、等离子体处理和等离子体表面处理等领域。
因此，涂层附着力 长 时间 脱与等离子等离子体下的纯 C2H6 脱氢相比，C2H6 的转化率和 C2H2、C2H4 和 CH4 的产率随着 H2 浓度的增加而显着增加。将 H2 施加到 C2H6 的力的优点之一是它抑制了碳沉积物的形成。表 3-2 显示了等离子体能量密度对 H2 气氛中 C2H6 脱氢反应的影响。随着等离子注入量的增加，C2H6 的转化率急剧增加。
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因此，与等离子等离子体下的纯 C2H6 脱氢相比，C2H6 的转化率和 C2H2、C2H4 和 CH4 的产率随着 H2 浓度的增加而显着增加。将 H2 施加到 C2H6 的力的优点之一是它抑制了碳沉积物的形成。表 3-2 显示了等离子体能量密度对 H2 气氛中 C2H6 脱氢反应的影响。随着等离子注入量的增加，C2H6 的转化率急剧增加。
因此，与等离子等离子体下的纯 C2H6 脱氢相比，C2H6 的转化率和 C2H2、C2H4 和 CH4 的产率随着 H2 浓度的增加而显着增加。将 H2 施加到 C2H6 的力的优点之一是它抑制了碳沉积物的形成。表 3-2 给出了等离子发生器能量密度对 H2 气氛中 C2H6 脱氢反应的影响。随着等离子注入量的增加，C2H6 的转化率急剧增加。
其间，等离子清洗机物理反应机制是活性粒子炮击待清洗表面，使污染物脱离表面终究被真空泵吸走；等离子清洗机化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质，然后到达清洗意图。 表面清洗方法才是等离子清洗机技能的中心，这一中心也是现在很多企业之所以挑选 等离子清洗机的重点。
在大气压脉冲电晕等离子体中，改变针板反应器上下电极之间放电距离的效果主要有两个方面。一是当反应气体密度恒定时，放电距离D增加。 , 电极间的电场强度增加。当它减小时，等离子体中高能电子的麦克斯韦分布曲线由高能区向低能区移动，高能平均能量减小。 -能量电极。另一方面，随着D值的增加，等离子等离子体的有效面积增加。这对应于反应气体在等离子体区域中的停留时间的增加。
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Liu 等人使用直流和交流电晕放电等离子体技术研究了在氧化气体 O2 存在下的甲烷耦合反应。在频率30Hz、电压5kV、气体流速ml/min下，涂层附着力 长 时间 脱甲烷转化率为43.3%，C2烃选择性为48.3%，C2烃收率为21%。根据等离子设备制造商的一项调查，产品中 CO 和 CO2 的含量取决于添加氧气的方式。
如果要使阴极损耗尽可能小，附着力 聚氨酯一般采用耐火材料，但选材时要考虑所用工作气体的种类。如果工作气体是氩气、氮气、氢-氮、氢-氩气，阴极常用铈-钨或钍-钨；当工作气体为空气或纯氧时，可用锆或水冷铜作阴极。等离子区域销售分站低温真空常压等离子表面处理机（等离子清洗机、等离子）服务区域：服务热线：转换失败。
