反应机理主要是利用等离子体中的自由基与材料表面发生化学反应，sio2的亲水性压力高时有利于自由基的产生，压力开始反应。 (2) PHYSICAL REACTION 主要是利用等离子体中的离子进行纯物理撞击，离子的平均自由基是材料表面的原子或附着在材料表面的原子被敲除。压力越低，冲击越轻，因此离子能量越高，物理冲击的影响越大。因此，如果以物理反应为主流，则需要控制反应压力。 ，进一步说明各种设备的清洗效果，使清洗效果更好。
事实上，sio2的亲水性原因如果应力作用停止，即电场降至0,H+就会产生回流，使设备部分恢复。然而，完全回收是不可能的，因为一些H+离子会在SiO2栅介电层中被还原，不能回流。
等离子蚀刻机技术的典型应用是：半导体/集成电路；氮化镓；氮化铝/氮化镓；砷化镓/砷化铝镓；砷化镓；磷化铟、镓/铟镓化物(InPInGaAs/InAlAs)；硅；硅锗；硅化硅陶瓷(Si3N4)；硅的溴化氢；硒化锌(ZnSe)；铝；铬；铂；钼；铌；铟；钨；铟锡氧化物；铟钛酸铅；塑料/高分子材料；聚四氟乙烯(PTFE)；聚甲醛(POM)；聚苯并咪唑(PBI)；聚醚醚酮(PEEK)；聚酰胺(PFA)；聚酰胺(PFA)；聚酰胺等。
德克萨斯大学安德森癌症中心的研究人员也成功地在这种材料上培养活细胞，sio2的亲水性原因证明了它的生物相容性。此外，德克萨斯大学安德森癌症中心(UNIVERSITY of Texas M.D. Anderson Cancer Center)的研究人员发现，烧结过程使氧化石墨烯薄片变成更强、更稳定的纯双层石墨烯。
sio2的亲水性原因
薄膜中的碳氟化合物比例、润湿性和存在的形态显然与纤维蛋白的吸收和储存密切相关，纤维蛋白是一种存在于人体血液中并参与凝血过程的蛋白质。通过PECVD可以制备具有不同表面形貌的类聚四氟乙烯薄膜。可通过等离子体聚合由有机硅单体获得类有机硅膜。 SixCyHkOz 复合物用于血液过滤器和聚丙烯中空纤维膜以涂覆活性炭颗粒。洗血机将患者的动脉血引入血液灌注装置，该装置在注入体内之前吸收和净化血液中的毒素和代谢物。
蓝宝石是氮化镓早期使用的基片材料，也是一种成熟的材料。光电应用中的大多数氮化镓器件都是由该衬底制造的。两个新兴的衬底是Si和SiC，即Gan-on-Si(硅基氮化镓)和Gan-on-sic(硅基氮化镓)。由于碳化硅和氮化镓之间的晶格拟合度小，氮化镓材料可以自然地在碳化硅衬底上生长出高质量的外延，但制备成本当然也很高。氮化镓材料在LED和射频领域具有独特的优势。
医疗器械的等离子体表面处理含有PP(聚丙烯)的微管表面能相对较低且疏水。如果不进行等离子体表面处理和接枝处理，涂层蛋白的附着力就会很差，影响产品的性能。医用输液导管、引流管、导管等，原料有硅酮、乳胶、PVC等。这类材料表面亲水性较差后或添加增塑剂，通常采用等离子体表面处理，然后结合或涂覆蛋白质。医用耗材，如细胞培养皿、酶板等，一般采用聚苯乙烯(PS)制成，其表面润湿性较差。
使用常规的水性冷胶就能使覆膜或者上光的纸板在糊盒机上得到可靠的粘合，完全不再需要局部覆膜、局部上光、表面打磨切线等工序，同样也不再需要因为不同的纸板而更换不同的特殊胶水等。 通过等离子表面处理后，不仅可以增强其对胶水的适用性，不再依赖特种胶水就能实现高品质粘接。而且改善了表面的铺展性能，防止气泡等的产生。
sio2的亲水性
经等离子清洗技术处理后，sio2的亲水性前后效果有显著变化，有利于下一粘接工艺的操作。等离子清洗技术不仅操作简单，而且成本低廉。等离子体表面改性可以在表面喷涂前对不同材料进行表面改性，可以提高材料的喷涂效果。例如，一些化学材料可以用在线等离子清洗机清洗，对材料表面进行改性，提高材料表面的亲水性和疏水性，为后续的涂层工艺，提高涂层的效果和质量。在线等离子清洗机具有在线生产能力，可实现全自动化。
此外，sio2的亲水性原因C的谱线强度基本没变，同时反应的C2烃选择性升高，分析原因是由于等离子体plasma活性氢原子的大量存在抑制了C2烃分解脱氢，并且还能将反应体系中生成的C还原成CH自由基，自由基偶联生成了C2烃，从而减少积碳。在实验过程中也观察到反应器壁及电极上的积碳减少的现象。。IC半导体在集成电路封装行业，面临的挑战：不良芯片的粘接，不良导线的连接强度，这些均可用等离子清洗技术来改善和解决。
