等离子体就是在抽真空的状态下用射频能量发生器让离子、电子、自由基、游离基等失去电性，纤维素表面疏水改性显示中性，此时各种树脂类型的钻污都能快速、均匀地从孔壁上去掉，并形成一定咬蚀，提高金属化孔的可靠性。采用Plasma除软硬结合板孔钻污时，各种材料的咬蚀速度各不相同，从大到小为：丙烯酸、环氧树脂、聚酰亚胺、玻璃纤维和铜。从高倍显微镜可以明显看到有突出的玻璃纤维头和铜环。
表面活性剂(性)增强后，纤维素表面疏水改性其粘接效(果)明(显)改善，通过等离子处理工艺参数的不断优化，其效(果)将进一步提高，应用范围将越来越广。。近十年，总成本和用料的选用要素等则也日益被选为工业设计产品的为主导要素，从而使造商们开始将眼光投向了国防和纺织纤维领域。目前，PP、PC、ABS、SMC、各种弹性体以及各种复合材料等已在plasma技术中得到了广泛应用。
同时，纳米纤维素表面阳离子改性产生的气体产物和一些未反应的颗粒被气泵排出。清洗HDI板的盲孔时，等离子一般分为三个步骤。第一步是使用高纯度 N2 产生等离子体，同时预热印刷板以产生特定的聚合物材料。活性（化学）状态；第一阶段以O2和CF4为原始气体，混合后产生O和F的等离子体，与丙烯酸、PI、FR4、玻璃纤维等发生反应。去污；在第三阶段，O2 用作原始气体，产生的等离子体用反应残渣清洁孔壁。
在g-C3N4骨架中引人新元素，纤维素表面疏水改性因而改变材质的电子结构，达到调节g-C3N4的光学和其它物理特性的效用。 plasam光催化材质，即基于具有稀有金属纳米颗粒的表面plasam共振效应的金属纳米颗粒与半导体材料复合的光催化材质的，当稀有金属纳米颗粒(主要是Au和Ag，尺寸为几十至几百纳米)分散到半导体器件光催化剂中扩大可见光吸收范围，同时增强光吸收能力。。
纳米纤维素表面阳离子改性
气体中的真空等离子体清洁器会有更多选择，并可选择多种气体进行匹配，使材料表面氧化物、纳米级微生物去除有明显提高。这里应该强调的是，大气入口气体的目的主要是激活和强化入渗。真空气体的作用是增强蚀刻效果，去除污染物，去除有机物，增强侵入性。显然，气体的选择范围更广，真空等离子体清洗工艺应用更广泛。3、温度。
（1）环保节能，等离子清洗技术，常规湿法清洗技术，采用干法工艺，消耗和降低水和化学试剂（低）成本，无需二次（2）具有在线生产能力，全自动化，节省人员，减少处理时间，高效低成本。 (3)无论加工何种板材均可加工。可以处理形状复杂的材料。材料表面处理的均匀性好。 （4）对材料表面的唯一作用是纳米（米）级处理，在保留被处理材料原有特殊（效果）的同时，还能赋予另一种新的功能。造成损坏，适用于聚合物处理。材料。
正是由于低温等离子体的独特性，近年来在材料表面改性中得到了越来越多的应用。等离子机的目的主要有以下3个:提高金属表面的附着力。经过金属处理器专用的低温等离子体表面处理后，材料的表面形貌发生了微观变化，虽然经过低温等离子体表面处理器处理后的金属材料，可以使材料的表面附着力达到62达因以上，可以满足各种粘接剂，涂布、印刷过程中，还能达到除静电的效果。提高金属表面的耐腐蚀性。
在 P 型半导体中，大多数载流子具有空穴结构，但在 N 型半导体中，载流子具有电子结构。除了所需的稳定性，P型半导体还具备以下条件： (1) 由于HOMO能级高，可与电极形成欧姆接触，空穴可顺利注入。 (2)具有很强的给电子能力。常见的包括稠环芳烃，例如 PENTACENE 和 RUBRENE，以及聚合物，例如能够活化和改性有机半导体的聚合物（3-己基噻吩）。
纤维素表面疏水改性
它还避免了可能由二次污染芯片造成的芯片损坏。在线等离子清洗广泛应用于涂胶、焊接、印刷、涂装等场合。离子作用于产品表面，纳米纤维素表面阳离子改性提高其表面活性，活化表面性能。这样可以大大提高产品，已成为中高档产品表面性能处理不可缺少的设备。在线真空等离子清洗机专注于等离子表面改性或等离子表面处理应用。它利用等离子体的高能量和不稳定性对被处理材料的表面进行清洁、活化和活化，从而改变表面的微观结构、化学性质和能量。
如果放电电压大于 10 Pa 且小于 50 Pa，纤维素表面疏水改性则压力对接触角没有明显（明显）影响。但是，如果压力超过50Pa，接触角就会增加。这使得气体很难被高压完全（完全）电离，并且会影响聚四氟乙烯表面的改性。等离子赋予材料新的表面特性，但等离子表面处理的效果存在时效性问题，并且随着放置时间呈现不断变化。随着时间的推移，表面接触角会逐渐增大。等离子体处理后老化润湿性降低的原因可能是多方面的。
