②化妆品容器表面光滑、滑、光滑、干净、无皱纹、无粗糙、无明显划痕和擦伤。③化妆品容器的丝印、喷墨、喷墨、擦洗试验不脱色、脱落。 综上所述，陶氏附着力达到4b等级等离子表面处理技术在化妆品容器中的应用，不仅能改善油墨、丝印的附着力，而且能提高表面处理的质量，满足女性对容器品质和健康的双重要求。随着技术的进步和需求数量的增加，表面处理的效率和设备投入的成本，将是等离子表面处理工艺普及的趋势！。
由于等离子清洗是一种” 干式”的清洗工艺处理完后材料能够立即进入下一一步的加工过程，陶氏附着力达到4b等级因而，等离子清洗是- -种稳定而又高(效)的工艺过程由于等离子体所具有的高能量，材料表面的化学物质或有(机)污染物能够被分解，所有可能干扰附着的杂质被有效去除，从而使材料表面达到后续涂装I艺所要求很好的条件。
原因是聚合物表面的交联增强了边界层的附着力，附着力达到4b或者等离子体处理过程中偶极子的引入提高了聚合物表面的附着力，或者等离子体处理消除了聚合物表面的附着力。可能是这样。改善聚合物表面、污垢和附着力。电晕处理具有相同的效果。。等离子喷涂是一种材料表面强化和表面改性技术，可赋予基材表面耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化、电绝缘、绝缘、防辐射、减磨、密封等性能。
它是电流信号的上升前沿，附着力达到4b不会进入辉光放电等级。这表明DBD区域的放电模式随着外加电压的增加而改变，但高压电极外的等离子射流区域的流光放电模式不受影响。也就是等离子两边电压高。电极彼此独立地形成和分布。从以上实验可以看出，虽然选择了DBD放电配置，但等离子体射流实际上是由于高压电极边缘的强电场，气体破坏形成的，与DBD无关。即等离子射流是由电晕放电机构形成的。
陶氏附着力达到4b等级
通过与电离气体和压缩空气的化学反应加速的活性气体射流去除污染颗粒，将它们转化为气相，并通过真空泵以连续气流排出。如此获得的纯度等级较高。当发生氧化铜还原反应时，氧化铜与氢气的混合气体等离子体接触，氧化物发生化学还原反应产生水蒸气。混合气体中含有Ar/H2或N2/H2，H2含量明显小于5%。大气压等离子体在运行期间具有非常高的气体消耗。
等离子体是电中性基团，但它含有大量的电子、离子、受激分子原子、自由基、光子等活性粒子，它们的能量范围为1～10eV，这样的能量。我知道是一个等级。由于这是纤维材料中（有机）分子结合能的能量范围，等离子体中的活性粒子与纤维材料表面发生物理和化学相互作用，如解吸、溅射、激发、蚀刻等有。化学反应，如交联、氧化、聚合和接枝。。说到等离子清洗机，大家都认为等离子表面处理设备并没有错。
印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的等离子表面粗化、刻蚀、活化。等离子处理机在玻璃上应用。
等离子体清洗机是利用等离子体中各种高能物质的活化作用，彻底剥离吸附在物体表面的污垢。现有的等离子体清洗机主要分为两大类，一类是常压等离子体清洗机，一类是真空等离子体清洗机。常压等离子体清洗机由等离子体发生器、气体管道和等离子体喷嘴组成。等离子体发生器产生的高压高频能量激活和控制喷嘴管内辉光放电形成低温等离子体。等离子体通过压缩空气注入工件表面。当等离子体与被处理物体表面接触时，其物体会发生变化。
陶氏附着力达到4b等级
等离子表面处理后的材料有不同的时效性，陶氏附着力达到4b等级因此处理后当即印刷、喷涂、粘接、复合。影响等离子表面处理效(果)的因素有处理时间及距离，速度，印刷性和粘接力随时间的增加而提高随温度升高而提高，实际操作中，通过采取降(低)牵引速率、趁热处理等方法，以改善效(果)。。
导致翘曲的因素还包括诸如塑封料成分、模塑料湿气、封装的几何结构等等。通过对塑封材料和成分、工艺参数、封装结构和封装前环境的把控，附着力达到4b可以将封装翘曲降低到最小。在某些情况下，可以通过封装电子组件的背面来进行翘曲的补偿。例如，大陶瓷电路板或多层板的外部连接位于同一侧，对他们进行背面封装可以减小翘曲。芯片破裂封装工艺中产生的应力会导致芯片破裂。封装工艺通常会加重前道组装工艺中形成的微裂缝。
