图一 水平式等离子清洗机原理示意图CCP典型放电条件：①压强10Pa-100Pa；②电极间距1cm-5cm；③高频功率20W-200W，迪高附着力促进树脂生成等离子体密度约为1016m-3量级CCP放电优势：能够较容易生成大口径等离子体，放电现象较为稳定。
4、处理效果稳定等离子清洗的处理效果非常均匀稳定，迪高附着力促进树脂常规样品处理后较长时间内保持效果良好。5、处理过程无需额外辅助的物品和条件大气等离子清洗机只需要220V交流电和压缩空气气源即可！无需其它额外物品和条件。 6、运行成本低全自动运行，可24小时连续工作，无需人工看管，运行功率可低至500W。
等离子体常用的激励频率有三种:激励频率为40kHz的超声波等离子体、激励频率为13.56MHz的射频等离子体和激励频率为2.45GHz的微波等离子体。不同等离子体产生的自偏置是不同的。超声等离子体的自偏置在1000V左右，迪高附着力促进树脂射频等离子体的自偏置在250V左右，微波等离子体的自偏置很低，只有几十伏特，三种等离子体的机理不同。
一般来说，迪高附着力促进剂1600高温等离子体是由大气压下气体的电晕放电和低温等离子体产生的。由低压气体辉光放电形成。热等离子体装置[4]利用带电物体的尖端（如刀形或针形尖端或狭缝电极）产生非均匀电场。电晕放电。施加的电压和频率、电极间距、处理温度和时间都会影响电晕处理的效果。电压上升 电源频率越高，电源频率越高，加工强度越高，加工量越大。
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。等离子清洗机清洗工艺已被广泛应用于晶圆加工、芯片封装、传感器、精密电子和医疗器械等领域，其优点多多，例如不会改变材料表面特性和外观，能够对材料做到彻底清洗。
等离子体的“活性”成分包括离子、电子、原子、反应基团、激发态核素、光子等。等离子清洁剂利用这些活性成分的特性来处理样品表面并实现其清洁目标。产生等离子体的条件：足够的反应气体和压力。反应产物必须能够与被清洗物体的表面高速碰撞并提供足够的能量。反应后产生的物质必须是挥发性微量混合物，这样才能用真空泵抽出。泵的容量和速度必须足够大，以快速排出反应副产物并补充反应所需的气体。。等离子清洗机是一种干试生产工艺。
在IC芯片制造领域，等离子清洗机加工技术是一个不可替代的成熟工艺，无论是芯片源离子注入、晶圆镀膜，还是我们的低温等离子表面处理设备。成果：等离子清洗机去除晶圆表面的氧化物、有机物、掩膜去除等超细化处理和表面活化，提高晶圆表面的润湿性。
除了气体分子、离子和电子之外，等离子体还包含电中性原子或原子团（也称为自由基）。这些是由势能激发的处于激发态的一组电中性原子。由于其短波长和潜力，紫外光在等离子体与材料外表面之间的相互作用中起着重要作用。在接下来的小编中，我们将分别介绍等离子在每种情况下的作用。自由基如原子团在材料外表面上的反应。自由基在等离子体中起着重要的作用，因为这些自由基是电中性的，在等离子体中存在很长时间，而且数量多于离子的数量。
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