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等离子体的准电中性；等离子体技术等离子体只能在特定的空间尺度和时间尺度上电中性。但由于内部粒子热运动和外电场的干扰，等离子体是不是气体等离子体中可能会发生局部电荷分离，中性条件被破坏。但是，这种偏差在时间和空间上都是有限的。一旦偏差发生，电荷间的库仑力相互作用使电中性尽快恢复。
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光子等离子体机利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，大连理工大学等离子体物理考研真题从而达到清洗和涂层的目的。则等离子体产生的条件是：有足够的反应气体和反应压力，反应产物必须能够高速撞击吹扫物表面，并有足够的能量供应。反应后产生的物质必须是易挥发的精细组合，以便于真空泵去除。泵的容量和速度必须足够大，以加快反应的副产物，反应所需的气体必须迅速补充。
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鞋材加工中常用的等离子体的出现形式称为辉光放电。其原理是在密闭容器中激发中性原子和分子达到气体击穿电压，从而产生等离子体。。为什么等离子体清洗技术在微电子封装领域具有广阔的应用前景；等离子体清洗技术的成功应用取决于技术压力、等离子体激发频率和功率、时间、技术气体种类、反应室和电极结构以及待清洗工件的放置位置等技术参数。等离子体清洗技术可以提高封装的工艺性、可靠性和成品率。
1.环境保护在等离子清洗机的过程中，气体与固体有关，不消耗水资源，不需要添加化学物质，不污染周围环境。2.广泛性金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺甚至聚四氟乙烯(PTFE)，一般都可以使用等离子清洗机进行处理，而不考虑待处理对象的基本材料类型、局部和负责任的结构。3.功能强大。等离子清洗机不仅涉及道路高分子材料的浅表面，还具有保留材料本身性质的新功能。
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洗衣机处理可提高活性染料在纤维中的外扩散系数和饱和活性染料在纤维中的吸收率。等离子体清洗机射流处理可以改善纤维的染色性能。这可以用纤维染色的粘附和外扩散过程来解释。
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等离子体表面处理器台阶高度对多晶硅栅刻蚀的影响；除了等离子体表面处理器刻蚀本身对多晶硅栅尺寸的影响外，等离子体是不是气体浅沟槽隔离引起的表面形貌起伏对多晶硅栅尺寸也有明显影响。浅沟槽隔离的台阶高度表征了多晶硅片生长前的表面形貌。由于炉管中多晶硅的平坦化生长，正台阶高度（浅沟隔离氧化硅的上表面高于体硅的有源区）会导致多晶硅在浅沟隔离区附近变厚，进而影响多晶硅栅侧壁角。
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