硅胶表层容易被灰尘污染。制造商通常采用有机化学喷雾器来防止硅胶产品表层的污染,使其更加光滑。然而,这种加工工艺不仅成本增加,而且危及生态环境保护和人们的身心健康。
低温等离子表面处理方法使原材料表层发生各种物理化学反应,会形成蚀刻粗化,或产生高密度的化学交联层,或引入含氧官能团。硅胶表层经设备处理,结果表明N2、Ar、O2、CH4-O2、Ar-CH4-O2能够加强硅胶的润湿性。
采用低温等离子清洗技术,能够改变硅胶表层的氧分子,将负表层改为正电极。其静电感应特性低,防污性能好,适合用于眼镜框、手表带等高档产品,也适合用于医疗器械和运动产品,使产品具有良好的特性。低温等离子清洗技术适合用于合成纤维、高聚物、塑胶等原材料,也适合用于金属材料和结构陶瓷的清洁、活性和蚀刻工艺。它是一种绿色环保的表层处理工艺,适合用于所有硅材料和相关产品。