低温等离子技术应用：等离子清洗-等离子蚀刻-等离子涂层-等离子活化剂类型：三轴低温等离子清洗机产品应用：提高材料表面亲水性、粘合性和染色性应用：PCB、FPC、五金、硅胶、橡胶、玻璃、电器、柔性屏等喷涂、印刷、印前加工。不仅适用于2D产品的表面处理，亲水性纳米膜层也适用于复杂的3D产品，处理效果均匀稳定！低温等离子表面处理机设备特点： 1.运动平台主要部件采用进口件。
通过低温 等离子火焰处理机，亲水性纳米膜层材料表面会发生许多物理、化学变化，或出现刻蚀现象(肉眼看不见)，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使亲水性、粘结性、可亲和性、生物相容性和电性分别得到改善。。等离子体指部分或完全电离的气体，且自由电子和离子所带正、负电荷的总和完全抵消，宏观上呈现中性电。
等离子体清洗技术在半导体工业、航空航天技术、精密机械、医疗、塑料、考古、印刷、纳米技术、科学研发、液晶显示屏、电子电路、手机零部件等广泛行业有着不可替代的应用。。增强附着力和亲水性&MDASH；等离子清洁器等离子表面处理器等离子接触材料，孙守恒制备亲水性纳米粒子其能量将作用于接触材料表面。改变材料表面分子的活性状态和物理结构。这种表面处理方法可以准确、有针对性地改善材料的表面性能。
负载效应越小，孙守恒制备亲水性纳米粒子设计的金属连线图形的保真度越高；图形可以严格地从光罩经过曝光、显影传递到金属硬掩膜层，以及近似垂直的金属硬掩膜的侧壁轮廓角度，是工艺整合对金属硬掩膜层蚀刻工艺的要求。 典型的大型等离子清洗机金属硬掩膜层蚀刻工艺一般为光阻和底部抗反射层有机材料作为单一蚀刻掩膜的结构。。等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
亲水性纳米膜层
用硅-PDMS制备多层结构微阀时，直接旋涂PDMS，固化于硅片上，是一种可逆键合的方法，该方法为可逆键合，结合强度不高。生物芯片采用 等离子清洗机对PDMS与带氧化层掩膜的硅衬底进行分别处理，使之相互结合。该方法实际上是PDMS和SiO2掩膜的结合体，但是在硅片上热氧化得到的SiO2膜层与PDMS的结合效果并不理想。采用等离子体法对PDMS和带钝化层的硅片进行了表面处理，并在常温下成功地进行了键合。
然而，膨胀聚四氟乙烯(ePTFE)的结合对每个人来说都是一个头疼的问题。让我们先来了解一下医用ePTFE薄膜难以坚持的原因。医疗的原因首先,ePTFE电影很难bondBecause医疗的厚度膨胀聚四氟乙烯ePTFE电影通常4-12mm,需要满足不同的实际需要,它通常与不同厚度的薄膜层压,或与其他医疗保税材料成一定厚度的板。
因此介质阻挠放电是目前适合工业生产的等离子体产生方法。介质阻挠放电的底子在于增加绝缘介质，如果没有绝缘介质阻碍放电，位于极板气隙中的带电粒子将会以极高的迁移速度趋附在两个极板上，从而使气流难以吹出，而带电粒子则会在两个极板均覆盖一层绝缘层后，到达绝缘介质表面，而不是极板表面。
通过等离子体中所含的活性粒子（自由基）的反应进行活化。可以对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗机不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，增强邦定性。等离子清洗机增强印刷油墨、油漆、胶粘剂、泡沫等的附着现象。 在进行引线键合前，用等离子清洗机清洁焊盘及基材，会显著提高键合强度和键合线拉力的均匀性。对键合点的清洁意味着去除纤薄的污染表层。
亲水性纳米膜层
2) 蒸发。即固体表面接受来自等离子体的能量而熔化、蒸发。3) 溅射。当离子或中性粒子入射到表面时，亲水性纳米膜层它的一部分能量传给少数靶原子，其中有些在点阵达到热平衡之前发射出去，这就是溅射。溅射是阈值性的，即当入射粒子的能量大于某一阈值（通常为5～50eV）时,才出现溅射。4) 化学溅射。发生在等离子体装置表面的化学过程。主要是由于表面催化作用引起的。当粒子入射到表面后，在表面进行化学反应生成挥发性产物而释放。
