三、真空等离子吸尘器加工产品的散热方式及补救措施大家都知道散热方式有四种：辐射、传导、对流、蒸发。真空等离子清洗机的反应室本体、电极板、支架及配件的散热主要依靠传导散热、辐射散热和少量对流散热。 1、真空等离子清洗机的反应室本体一般采用铝材或不锈钢材质，不锈钢表面的活化位点电极板基本采用铝合金材质。这两个部分在产品的等离子加工过程中吸收了大量的热量。辅助设备。
氧气（可能与氩气混合）用于处理铝、不锈钢、玻璃、塑料和陶瓷的表面。 3.在等离子装置真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压，不锈钢表面的活化位点气体被破坏并产生辉光放电，在真空室内产生等离子体并产生被加工工件。用已释放的等离子覆盖，并开始清洁操作。洗涤循环时间通常从几十秒到几分钟不等。蚀刻机允许等离子蚀刻印刷电路板以增加附着力, 胶粘剂和装饰等。 4、清洗完成后，关闭电源，排尽气体，用真空泵将污垢蒸发掉。。
2、平头平头螺钉和平头内六角螺钉：主要用于固定控制面板的线槽和配套设备的保护帽。头部光滑，不锈钢表面的活化位点线皮不易被划伤，头部平伸紧靠线缆，受力面积大，线槽固定更牢固，减少突出面积。这种螺钉用于固定导线中的凹槽，因为空间狭窄，狭窄时切线较深。 3、沉头螺钉：选用的沉头螺钉原材料为不锈钢。优点是该装置的外观是扁平的，因为整个螺钉可以拧入工件而不会伸出螺钉头。美丽而光滑。更强更安全。
2.真内腔。真内腔是用来清理对像的室内空间，不锈钢表面如何活化核心有石英腔和不锈钢真内腔。因其内部采用了真空(灭)菌(防)菌和等离子清洗法，对腔体压力的承受有一定的要求，因此须要采用材料较好的腔体进行配置。3.机械真空泵。真空等离子清洗机的构成主要是机械泵，其核心作用是抽干真腔中的常压，使真腔形成真空环境，然后进行等离子清洗。机械泵核心分为干、油两种。干水泵的能源由来主要是电力，而油泵则用汽油或柴油作能源。。
不锈钢表面的活化位点
金属等离子表面处理能使不锈钢对玻璃、金属对不锈钢、金属对塑胶及其它有色金属材料（铜、铝）具有很强的亲和力，并且在提高被粘的物体表面粘附力仍很强。解决以往用机械法处理被粘表面使之露出金属本色，将金属表面进行粗化处理增加粘接能力。。等离子对玻璃处理主要是解决玻璃镀膜、喷漆、粘接不牢等这些问题，等离子清洗机具有机械冲击力，起到了刷洗作用，使玻璃表面污染物迅速脱离表面，达到高效清洗的目的。
4.金属和涂料工业对铝的铝型材进行预处理，而不是粗加工和打底，以获得相对稳定的氧化层；去除铝箔上的油脂--无湿化学清洗法；不锈钢板激光焊接前的清洗。5.化纤纺织工业化纤预处理速率达到60m/min；粘合前要清洁夹层玻璃和镜面玻璃的表层。6.印刷和代码喷墨行业全自动等离子自动粘贴盒提高UV的粘接强度，并可采用环保水溶性胶粘剂，减少胶粘剂使用量，合理有效降低产品成本。
在真空等离子体室内，射频电源在一定压力下产生高能无序等离子体，通过轰击等离子体对产物表面进行清洗，达到清洗的目的。2.表面活化溶液。等离子体表面处理后的物体提高了表面能、亲水性、附着力和附着力。3.表面蚀刻液。用反应性气体等离子体对材料表面进行选择性蚀刻，蚀刻后的材料转化为气相，通过真空泵排出。处理后材料的微观比表面积增大，亲水性好。4.纳米涂层溶液。经清洗机处理后，等离子体引导聚合形成纳米涂层。
半导体硅片（晶圆）：在IC芯片制造领域，等离子体清洗技术是不可替代的成熟技术，无论是在芯片源离子注入、晶圆镀膜，还是我们的低温等离子体表面处理设备都可以实现：去除晶圆表面氧化膜、有机物、去除掩膜等超净化处理以及表面活化以提高晶圆表面润湿性。。IC封装及等离子体清洗技术在IC封装中的作用；IC封装产业是我国集成电路产业链中的第一支柱产业。考虑到芯片尺寸和反应速度的不断减小，密封技术成为一项核心技术。
不锈钢表面如何活化
材料表面的自由基重新结合形成致密的网络交联层。引入极性基因组。表面自由基与 DBD 放电控制的反应性粒子相结合，不锈钢表面的活化位点引入了高反应性极性基因。当在放电气体中引入反应性气体时，活化材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团如mel、氨基和羧基。所有这些官能团都是活性基团。 , 可以大大提高材料的表面活性。
在纺织染色过程中，不锈钢表面如何活化-低温等离子体发生器有三大主要功能:(1)-低温等离子体发生器溅射和化学腐蚀，使纤维表面粗糙;减少织物纤维的光反射，加强对光的漫反射和吸收，(2)低温等离子体发生器通过纤维表面接枝，引入一些对染料有亲和力的基团，在纤维表面形成大量的染料位点，(3)流过低温等离子体发生器后，纤维的染色分数和染色速率发生了显著变化。交联氧化和降解可诱导纤维表面形成表面层。
