在硅衬底上热生长的SiO2薄膜经过等离子清洗机的等离子表面处理，二氧化硅表面改性巯基提高了二氧化硅薄膜驻极体的稳定电荷积累。有机高分子驻极体材料具有优异的电荷储存稳定性，市面上的驻极体传感器多为有机高分子驻极体薄膜传感器。该传感器虽然具有寿命长、薄膜型、成本低等优点，但体积庞大的分立器件，无法满足驻极体声学传感器小型化和集成化的要求。近年来，人们发现二氧化硅（SiO2）薄膜表现出优异的驻极体性能。
等离子清洗机的等离子体是第四种不同于固体、液体和气体的物质形式。它由六种典型的粒子组成，二氧化硅表面改性巯基包括正离子、负离子、电子、激发分子和原子、基态分子或原子和光子。电浆清洗机，在工作中产生大量氧原子等氧基活性物质。当这些氧基等离子体喷射到材料表面时，它们可以与基材表面的有机污染物碳分子分离，成为二氧化碳后被去除。同时，有效提高了材料的表面接触性能，增强了强度和可靠性。
RF等离子体（激发频率，二氧化硅离子表面改性13.56MHz）包括物理化学双反应类型。 (2)工作气体的种类也影响等离子清洗的种类。例如，通常采用Ar2、N2等形成的等离子体进行物理清洗，通过冲击对产品表面进行清洗。反应气体 O2、H2 等等离子通常用于化学清洁，其中活性自由基与污染物（主要是碳氢化合物）发生反应。它反应形成小分子，如一氧化碳、二氧化碳和水，这些小分子会从产品表面去除。
然后用真空泵除去气态污泥。2)氧:等离子体与样品表面化合物反应的化学过程。例如，二氧化硅表面改性巯基氧等离子体可以有效地去除有机污染物氧气等离子体与污染物反应产生二氧化碳，一氧化碳和水。一般来说，化学反应在去除有机污染物方面效果更好。3)氢:氢可以用来去除金属表面的氧化物。常与氩气混合，以提高脱除率。人们通常担心氢的可燃性，因为氢的用量很小。一个更大的担忧是氢的储存。我们可以用氢气发生器从水中产生氢气。
二氧化硅表面改性巯基
低温等离子体中存在各种不断运动和碰撞的粒子，它们都属于非弹性碰撞，我们称为等离子体元过程，即等离子体微观过程，即等离子体微观过程，如下表。等离子清洗机在包装等离子涂覆工艺上的应用:二氧化硅可以通过在氧等离子体中氧化硅蒸汽来获得。阳极电弧工艺使用可消耗的金属硅，放在熔炉中作为真空电弧的阳极。如果在金属阴极和上述熔炉之间施加20~30V的DC电压，只要阴极前面有蒸汽团，阴极和阳极之间就会发生连续电弧放电。
元素发射的谱线数目、强度、形态和宽度等信息与物质所处的物理状态及物理参量，如温度、压力、粒子密度等具有密切关系。因而这试验技术为我们提供了分析等离子体成分、含量、温度和微观运动机制的有效方法。通常情况下，以TEOS作为沉积源沉积二氧化硅薄膜的PECVD技术，一般认为TBOS会发生如下的分解反应：Si(OC2H)4(@) - SiO2(目+ 4C2H(2) + 2H2Og。
例如，在电子产品中，LCD/OLED屏幕的涂层处置、PC塑料架构的粘合前处置、机壳和按键等零部件的表面喷油丝印、PCB表面的去胶、去污和清洁、镜片胶粘贴前的处置、电线和电缆代码喷涂前的处置、汽车工业灯罩、刹车片和门密封条的粘贴前处置；等离子清洗机提高材料表面的渗透能力，机械行业金属零件的细微无害清洗处置、镜片涂装前的处置、各种工业材料的密封前处置、三维物体表面的改性处置等。。
可是，若采用等离子改性工艺实现清洗，弱化学键会很容易中断，即使污染物质残余在非常复杂的几何形状表层，也会很容易被打断。一般用天然橡胶、硅橡胶或PVC(PVC)材质制作而成，考虑到材质本身的生物相容性较差，对PVC材料实现等离子改性，以改进其浸润性，在PVC表层涂覆三氯生、溴硝醇。可杀灭细菌和抗菌剂的粘附，因此可减小病人在使用过程中因材质而引起的感染，改进材质的生物相容性。
二氧化硅离子表面改性
红外光谱（FT-IR）和X射线光电子能谱（XPS）表明，二氧化硅表面改性巯基改性PTFE表面具有羟基、羰基、羧基等活性基团，提高了PTFE表面的粘合性能。这种处理方法虽然可以获得较好的表面改性效果，但属于需要处理大量废液的湿化学处理，操作危险，对环境和人体危害很大。棕色和黑色。低温等离子清洗设备的处理就是用等离子对其表面进行处理。等离子清洗机是一种干法工艺，可在不产生污染物的情况下节省能源。
