活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用，附着力促进剂作用使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到清洗目的。
CF4和O2进入等离子装置的真空室后，徐州附着力促进剂作用机理CF4和O2气体在等离子发生器的高频高压电场作用下发生解离或相互作用，形成含有游离态的等离子气体气氛。自由基。增加。 , 原子, 分子, 电子: O2 + CF2 & RARR; O + OF + CO + COF + F + E + 等离子体中的自由基和阳离子是上述高分子有机材料(C, H, O, N) 它发生化学反应。孔壁。
通过在微观层面上的一系列物理化学作用，附着力促进剂作用等离子的表面清洗作用能够获得精细的高品质表面。
气体的反应机理不同，附着力促进剂作用活性气体的等离子体具有很强的化学反应性。具有不同性质的气体有不同的污染物选择用于清洁。当一种气体被一种或多种附加气体渗透时，这些元素的组合提供了所需的蚀刻和清洁效果。在等离子体中的离子或高活性原子的帮助下，表面污染物被清除或形成挥发性气体。通过真空系统去除挥发性气体，达到清洁表面的目的。
附着力促进剂作用
反应残渣从表面脱落。典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体清洗的机理主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。等离子体产生的氧自由基具有很强的活性，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性物质，从而清除表面污染物。
(1) 化学反应化学反应中常用的气体有H2、O2、CF4等。这种气体在等离子体中反应形成高度反应性的自由基，这些自由基会进一步与表面反应。其反应机理主要是利用金属材料表面存在的自由基，在高压下产生更多的自由基，从而使金属材料在高压下产生更多的自由基，需要控制更大的压力才能让反应进行。 (2) 物理反应等离子体中的离子主要用作纯物理撞击，以去除物体表面上的原子和沉积在物体表面上的原子。
虽然离子体在宇宙的其他地方很丰富，但只存在于地球上的某些环境中。离子体的自然存在包括闪电和北极光。正如将固体转化为气体需要能量一样，产生电离层也需要能量。当温度升高时，物质由固体变为液体，然后由液体变为气体。随着气体温度的升高，气体分子将分裂成原子。如果温度继续升高，原子核周围的电子将与原子分离，形成离子(带正电荷)和电子(带负电荷)。这种现象被称为“电离”。由于电离作用而带有带电离子的气体称为等离子体。
等离子体清洗/蚀刻生产等离子设备设置在密闭容器两个电极形成电磁场,利用真空泵达到一定程度的真空,天然气越来越薄,分子之间的距离和自由流动的分子或离子之间的距离也越来越长,磁场效应，碰撞和等离子体的形成，辉光会同时发生。等离子体在电磁场的空间运动，并轰击被处理物体的表面，从而达到表面处理的效果，清洗和蚀刻等离子体清洗机有以下九个优点:清洗对象经等离子清洗后干燥，无需进一步干燥处理即可送入下道工序。
徐州附着力促进剂作用机理
等离子体中带电粒子碰撞的一个特点是远距离碰撞比近距离碰撞强得多。碰撞时间和平均自由程 l 主要取决于远距离碰撞。对于热等离子体，徐州附着力促进剂作用机理存在三个重要的弛豫时间。垂直减速时间、水平偏转时间、能量均衡时间t^。电子和离子的弛豫时间不同。等离子体以非热平衡开始，碰撞后电子先达到热平衡，然后是热平衡，然后是电子和离子之间的热平衡。电导率、渗透率、粘度和热导率是等离子体传输过程的重要参数。特征之一是双极扩散。
等离子清洗机在LCD-COG液晶组装工艺中的应用在封装工艺中适当地引入等离子清洗机进行表面处理，附着力促进剂作用可以大大改善封装可靠性和提高成品率。
