纳米材料的应用是热点，等离子表面改性技术由于纳米粉体材料的聚集问题，纳米材料的表面改性也越来越受到关注。粉末等离子处理设备被认为是一种很有前途的方法。粉末等离子处理设备等离子表面改性技术在粉末表面处理中的应用主要有等离子刻蚀、等离子辅助化学气相沉积、等离子处理三个方面。 (1)等离子刻蚀是指等离子体与聚合物发生相互作用，通过选择性刻蚀表面分子或优先刻蚀表面松散或无序部分的微观表面，可用于刻蚀。结构发生变化。
通过一系列反应和相互作用，等离子表面改性技术等离子体可以完全去除表面的灰尘。。等离子表面改性技术的种类：根据温度的不同，等离子体可分为高温等离子体和低温等离子体（包括高温等离子体和低温等离子体）。从太阳表面、核聚合物和激光聚合物获得 106k 到 108k 的高温等离子体。热等离子体通常是高密度等离子体，冷等离子体通常是薄等离子体。
如此，等离子表面改性技术低温等离子体需要破坏原有物体表面的化学键，继而形成新的化合键，给材料表面全新的特性。低温等离子体清洗是一种低温等离子表面改性技术。等离子体清洗是指非聚合性气体(如He、Ar等不活性气体以及O2、CO2、NH3等反应性气体的物理的或化学作用过程。
当电子云离开原子核时，等离子表面改性技术电子云和原子核之间发生库仑相互作用。再次，电子云从原子核附近移动，将偏离的电子云移回原子核附近，形成一个局部表。如果板状等离子体的频率与自由电子的固有频率相同，则形成局部表。即使很小的入射场，表面等离子共振，也可以产生大的共振。这种共振导致粒子。区域范围周围的区域得到了显着改善，共振频率与电子密度和电子有效质量有关。涉及粒度、形状和其他因素。这种电子的集体振荡称为偶极等离子体共振。
等离子表面改性技术
芯片也可以使用真空等离子清洁器（生物芯片、微流控芯片和凝胶沉积基板）进行清洁。可以使用真空等离子清洗机来提高粘合剂的粘合性能。提高光学元件、光纤、生物医学材料、航空航天材料等的粘合性能。同时，也可用于涂层。对玻璃、塑料、陶瓷、聚合物等材料进行表面改性和活化，提高表面附着力、润湿性、相容性，显着提高涂层质量。同时，该设备也可用于牙科领域。钛种植体表面预处理和硅压模材料表面处理提高了润湿性和相容性。
这两种等离子体都有自己的特点和用途(参见等离子体的工业应用)。气体放电分为直流放电和交流放电。例如，氧气、氮气、甲烷、水蒸气等气体分子在高频电场下处于低压状态，在辉光放电的条件下可以分解成加速的原子和分子。通过这种方式，产生的电子可以被分离成带正电荷和负电荷的原子和分子。
高密的等离子体源能在低电压下工作，因而能减弱鞘层的振荡。在晶片的蚀刻过程中，采用高密度的等离子源蚀刻技术，需要利用独立的射频源对晶圆进行偏压，使能量和离子相互独立。由于离子的能量一般在几个电子伏特量级，所以当离子进入负鞘层后，通过能量加速会达到上百电子伏特，并且具有很高的指向性，从而使离子蚀刻具有各向异性。。
尽管传统的电晕和火焰表面预处理方法已制成成品柔性包装的常用设备，主要用于包装结构的制图和涂层的增强，然而大气等离子表面处理机技术也可以提高对柔性包装粘合能力。大气等离子体处理工艺是为处理/功能化各种材料而开发的，与目前软包装应用中的电晕、火焰和底漆处理工艺相比有其独特的优点。在大气压和低温条件下，使用大量惰性和活性气体，大气等离子表面处理系统可以产生均匀的高密度等离子体。
等离子表面改性技术
同年，南山大气等离子表面活化改性处理商用MOS集成电路诞生，通用微电子利用金属氧化物半导体技术实现了比双极集成电路更高的集成度，并利用该技术制造了自己的计算机芯片组。 1968 年，Federico Faggin 和 Tom Klein 使用硅栅极结构（而不是金属栅极）来提高 MOS 集成电路的可靠性、速度和封装集成度。 Fagor 设计了一种原始的商用硅栅极集成电路（Fairchild 3708）。
真空等离子清洗机应用于线路板、LED、手机等行业，等离子表面改性技术真空等离子处理设备具有稳定性强，提高产品表面附着力，处理效果好，生产速度快，降低客户成本。等离子体技术可应用于涂装生产线。1、去污、活化，主要用于多层硬板、软线路板、软硬组合板去污、胶渣、激光钻孔、电石处理、聚四氟乙烯印制板开孔前金属化孔壁活化，板料涂膜后活化。
