等离子体清洗作为一种先进的干洗技术，电晕放电处理方法具有环保等特点。随着微电子工业的迅速发展，等离子体清洗机也越来越多地应用于半导体行业。半导体污染杂质与分类半导体制造中需要一些有机和无机物。此外，由于工艺始终由人在洁净室进行，半导体晶圆不可避免地受到各种杂质的污染。根据污染物的来源和性质，大致可分为颗粒物、有机物、金属离子和氧化物四大类。1.1粒子颗粒主要是聚合物、光刻胶和蚀刻杂质。
聚合：许多乙烯基单体，电晕放电处理方法如乙烯、苯乙烯，在等离子体条件下不需要任何其他催化剂和引发剂就可以在工件表面聚合，甚至在常规聚合条件下无法聚合的甲烷、乙烷和苯，在等离子体条件下也可以在工件表面交联聚合。这种聚合物层可以非常致密，并与基底结合得非常强。在国外，塑料啤酒瓶和汽车油箱在如此致密的层上采用等离子聚合，以防止痕迹泄漏。高分子生物医用材料表面还可以防止塑料中的增塑剂等有毒物质通过这一致密层扩散到人体组织。。
在这一过程中，电晕放电处理方法等离子体还产生高能紫外光，与快速产生的离子和电子一起，提供中断聚合物键合和产生表面化学反应所需的能量。在这一化学过程中，只有材料表面的少数原子层参与，聚合物的本体性质保持不变。选择合适的反应气体和工艺参数可以促进某些特定的反应，从而形成特殊的聚合物附着物和结构。可以选择反应物使等离子体与底物反应以形成挥发性附着体。
1常压等离子体清洗机流量控制器的选择根据放电形式的不同，聚合物的电晕放电处理方法常压等离子体清洗机放电所需的气体条件也有其特殊性。对于普通射流型和射频型，应引入满足一定压力和流量要求的压缩空气(CDA)，产生稳定的等离子体，以保证设备正常运行。通常流量控制方法是调压阀和手动浮子流量计配合，以保证工作气压和气流的稳定。建议选用带有流量控制器的专用气源，以提供稳定的工作气体。本装置的优点是携带方便，气源干燥洁净，压力流量连续稳定。
电晕放电处理方法
必须在不破坏其表面特性和电性能的前提下有效去除各种污垢。目前广泛使用的等离子体清洗方法主要有湿法和干法。考虑到环境因素、原料消耗和未来发展趋势，湿式清洗有很大局限性，干洗明显优于湿法清洗。在这些方面，等离子体清洗发展迅速，优势明显。等离子体是一种电离气体，如电子、离子、原子、分子或自由基的集合。
可提高整个工艺流程的处理效率；B、等离子设备的清洗可以保护用户免受有影响的化学溶液的破坏，同时尽可能避免湿法清洗时物体容易清洗的问题；C、尽量避免选择有ODS影响的化学溶液，如三氯乙烷，清洗后不会产生有害物质，所以这种清洗方法属于环保绿色清洗方法。随着世界对环境保护的高度重视，其重要性更加凸显；D、利用无线电波范围内的高频产生不同于直射光的等离子体。
化学加工方法：金属钠和萘在非水溶剂如四氢呋喃或乙二醇二甲醚的溶液中反应，形成萘-钠络合物，钠-萘处理液可蚀刻孔内聚四氟乙烯的表面原子，从而达到润湿孔壁的目的。这是一种效果好、质量稳定的典型方法，目前应用广泛。（2）孔壁凹蚀/孔壁树脂钻渍去除：对于FR-4多层印制电路板加工、数控钻孔后孔壁上树脂钻孔污垢等物质的去除，通常采用浓硫酸处理、铬酸处理、碱性高锰酸钾处理和等离子体处理。
Plasmacleaner又称等离子体表面处理器，是一项高科技技术，利用等离子体达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫物质的第四状态。施加足够的能量使气体电离，就变成了等离子体状态。血浆&ldquo；活动&rdquo；成分包括：离子、电子、活性基团、激发核素（亚稳态）、光子等，低温等离子体清洗机就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，从而达到清洗等目的。
聚合物的电晕放电处理方法
事实上，电晕放电处理方法不仅耳机和麦克风可以使用等离子清洗机来改善（升级）产品质量，很多其他声学设备也可以使用等离子表面处理技术。。耳机听筒的振膜通过等离子设备可以有效提高粘接效果（果），耳机中的振膜非常薄，很难粘接，过去我们通常会采用一些化学处理的方法来改善粘接效果（果），但这类方法会改变振膜的材质和特性，进而对耳机听筒的整体音效（果）产生影响，导致产品质量不高，使用寿命难以保证。
