细胞损伤，pmma表面附着力提升PMMA/NVP复合材料表面引起的细胞损伤小于10%。等离子沉积的 C3F8、HEMA 和 NVP 薄膜可以显着减少角膜细胞损伤。此外，沉积在PMMA表面的NVP薄膜的粘合强度远小于PMMA。等离子体处理通常是导致表面分子结构发生变化或表面原子被替换的等离子体反应过程。即使在氧气或氮气等惰性气氛中，等离子体处理也可以在低温下产生高反应性基团。在这个过程中，等离子体也会发出高能紫外光。
该现象发生在蚀刻开始时。与H2相比。这增加了PS的蚀刻速率并降低了选择性。CO沉积在PS表面并且可以用来调节刻蚀选择性。使用这三种气体的混合物，pmma表面附着力提升选择性竟然有5种以上。这适用于工业生产，但是XE-CO的混合气体在上面沉积更多的木炭PMMA的表面，破坏了原来的图案。相比之下，CO-H2的组合对图案化的影响很小，对实际控制有用。在10NM工艺中，使用CO-H2，边际尺寸差异小于1NM，直径15NM。
兔子角膜和晶状体之间的静态“接触测试”表明，pmma表面附着力提升未经等离子体处理的 PMMA 表面造成了 10-30% 的细胞损伤，而经过处理的 PMMA/HEMA 复合材料表面结果证明它只造成了 10% 左右。 PMMA/NVP复合材料表面造成的细胞损伤小于10%。等离子沉积的 C3F8、HEMA 和 NVP 薄膜在减少角膜细胞损伤方面都具有明显（显着）的效果。
等离子设备等离子体蚀刻对NBTI的影响：负偏压温度不稳定性(NBTI)指PMOS在栅极负偏压和较高温度工作时，pmma与金属附着力其器件参数如Vth、gm和Idsat等的不稳定性。如果是NMOS器件，就对应PBTI，正偏压温度不稳定性。 NBTI效应发现在1961年。
pmma与金属附着力
第二阶段：第二供应商（2021-2023） APPLE正在积极寻找MINI LED关键零部件的第二供应商，以分散供应风险并降低成本。这一阶段预计将持续到 2023 年。 MINI LED关键元器件的第二供应商大多为中国厂商，成本优势明显，产量可满足APPLE要求，出货占比将大幅提升。
此外，等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是产品提升的关键技术，比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层，复合材料的中间层、织布或隐性镜片的表面处理、微感测器的制造，超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗摩耗层等皆需等离子技术的进步，才能开发完成。
除了所需的稳定性，P型半导体还具备以下条件： (1) 由于HOMO能级高，可与电极形成欧姆接触，空穴可顺利注入。 (2)具有很强的给电子能力。常见的有：并五苯、红荧烯等稠环芳烃等聚合物，有机化学半导体用等离子表面处理设备可活化改性的聚合物（3-己基噻吩）。采用等离子表面处理设备对绝缘表面进行装饰，使有机物的堆积更加均匀光滑，从而显着提高器件的扩散性，提高器件的功能性。活动和变化，设备性能得到了显着提升。。
pmma表面附着力提升
