4.清洗完毕，离型膜电晕处理法切断电源，通过真空泵抽走气体和气化的污物，清洗结束。真空等离子清洗机有很多优点：如数控技术自动化程度高；具有高精度控制装置，时间控制精度高；正确的等离子清洗不会在表面产生损伤层，表面质量能得到保证；清洗工作在真空环境下进行，清洗过程环保（安全），不会对环境造成污染，有效保证清洗面不会二次污染。。
根据外加电场频率的不同，离型膜电晕处理法气体放电可分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等多种类型。直流(DC)放电由于其简单性至今仍被使用，尤其是对于工业大气等离子体清洗装置，可以发挥很大的功率。低频放电的范围一般为1~kHz，现在器件最常用的频率为40kHz。目前在实验装置和工艺设备中使用最多的是高频放电装置，其频率范围为10～MHz。
等离子体清洗/蚀刻技术是等离子体特殊性质的具体应用；等离子体清洗/蚀刻机的装置是将两个电极布置在密封的容器中形成电场，离型膜电晕机pet原膜除尘装置用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子之间的距离以及分子或离子的自由运动距离越来越长，在电场的作用下，碰撞形成等离子体，这些离子具有很高的活性，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面上引起化学反应。不同气体的等离子体具有不同的化学性质。
即使在氧气或氮气等非活性气氛中，离型膜电晕机pet原膜除尘装置等离子体处理在低温下仍能产生高活性基团。在这一过程中，等离子体还会发射高能紫外线，与产生的快离子和电子一起，提供打破聚合物键合键所需的能量，产生表面化学反应。只有材料表面的几个原子层参与这一化学过程，聚合物的本体性质才能保持不变。选择合适的反应气体和工艺参数可以促进特定的反应，形成不寻常的聚合物附着和结构。。
离型膜电晕处理法
实验表明，在晶圆生产光敏树脂带的过程中，使用微波等离子体表面处理仪器不会对腔体和腔门产生氧化损伤反应，被清洗物体的表面物质会变成颗粒和气体物质，并将其抽空，达到清洗的目的。微波放电是化学镀放电，防止了溅射造成的污染，因此可以获得密度更高的均匀纯净等离子体。适用于高纯度物质的制备和处理，具有较高的技术效率。通过操作控制系统设置技术参数，控制微波电离的强度和密度，以整合清洗件的不同技术标准。
在拉拔转印过程中，粘贴干膜的印刷电路板通过曝光后，需要进行固定蚀刻，去除未被湿膜保护的区域，用显影液对未曝光的湿膜进行蚀刻，使未曝光的湿膜被蚀刻掉。在这类定影过程中，由于定影筒喷嘴压力不均匀，导致局部未曝光程度的湿膜未完全溶解，形成残留物。在细线生产中，更容易出现这种情况，刻蚀后会造成短路。等离子体处理能很好地去除湿膜残留物。
对于形状复杂的衬底，如表面有小的有效沟槽或螺纹，在复杂形状附近等离子体参数的分布会有所不同，导致其周围电场发生变化，进而改变该区域的离子浓度和离子轰击能量。如果采用常规等离子体渗氮，鞘层中的离子碰撞会更加频繁，导致离子的能量下降（低），因此难以激发（活化）氧化物较多的金属表面，如不锈钢。这种复杂的衬底形状也会导致区域温度过热，氮化特性也会有别于其他衬底。
由表3-3可知，C2H6和CO2的转化率分别为33.8%和22.7%，C2H4和C2H2的总收率为12.7%。负载型稀土氧化物催化剂(La2O3/Y-Al2O3和CeO2/Y-Al2O3)引入反应体系后，C2H6的转化率、C2H4的选择性和产率、C2H2的选择性和产率均有所提高，而CO2的转化率略有下降。
离型膜电晕机pet原膜除尘装置
