在前沿研究领域，微波等离子宽带隙半导体仍处于实验室开发阶段。注：阿尔法等离子微波等离子清洗/脱胶设备用于相应宽禁带半导体的研发制造单位，为相关工艺提供技术支持。
目前常用的等离子体激发频率有3种：激发频率为40kHz的等离子体为超声波等离子体，微波等离子激发频率为13.56MHz的等离子体为高频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。非均匀等离子体的自偏压不同。超声波等离子的自偏压在1000V左右，高频等离子的自偏压在250V左右，微波等离子的自偏压很低，只有几十V。博尔特和三种等离子机制是不同的。
利用低温等离子体技术对碳纳米管进行改性组装后，微波等离子将碳纳米管用于环境污染物的检测和治理研究，取得了一系列的成果。 采用Ar/H2O,Ar/NH3,Ar/O2微波等离子体对碳纳米管进行表面处理，在碳纳米管上引入含氧、含氨基等功能基团，改善其亲水性，使之成为纳米溶液。这类经处理的功能化材料对于改善碳纳米管的生物吸附和环境吸附有良好的应用前景。
当采用AC时，微波等离子只能选用电信规定的科研及工业用频段（中频MF40KHz、射频RF13.56MHz、微波频率MW2.45GHz）否则会干扰无线电通信。。车辆涂装和船舶使用等离子体表面处理的3个因素，物理效用下等离子体中的大量离子体、刺激性分子和自由基等多种特异性粒子效用于物质样品表面，可以去除表面本来的污染物和杂质。
微波等离子
由于这属于无线电波频谱范围，故又称为射频放电（Radio frequency discharge），简称RF放电，最常用的频率为13.56MHz。当所用电场的频率超过1GHz时，属于微波放电（Microwave discharge），简称为MW放电。常用的微波放电频率为2450MHz。 本篇关于大气等离子清洗机的文章出自北京 ，转载请注明出处。。
等离子清洗技术不会在微观尺度上影响材料表面的材料特性：随着等离子科学研究、聚变实验的需要，以及工业对可靠等离子处理系统和等离子清洗技术设备的需求不断增加，它已从 19 世纪的气体排放设备发展到与先进技术并驾齐驱。进入生产设备。任何用直流电、高频和微波电场电离气体的方法都可以用来产生等离子体源。等离子清洗技术为微观尺度的材料表面改性提供了一种环保且经济的方法，并且改性过程不需要机械处理或化学试剂。
但光刻胶只是圆形转化的媒介，当光刻机在光刻胶上形成纳(米)图形后，需要进行下一步的生长或刻蚀的工艺，之后需要用某种方法把光刻胶去除。等离子体去胶机可以实现此功能。它用射频或微波方式产生等离子体，同时通入氧气或其他气体，等离子体与光刻胶进行反应，形成气体被真空泵抽走。
低温等离子表面处理原理 低温等离子体是低气压放电（辉光、电晕、高频和微波等）产生的电离气体，在电场作用下，气体中的自由电子从电场获得能量成为高能量电子。
远距等离子体蚀刻机台就可以满足这些工艺的需要。远距离等离子体蚀刻机台的等离子体产生以及蚀刻反应是在不同的腔室中完成的。反应气体进入等离子体激发腔室，微波等离子在外加电场或者微波的作用下电离产生等离子体，然后通过一个管道 或者特定的过滤装置进入蚀刻腔室。由于带电粒子在传输的过程中会被管道器壁或者特定装置过滤掉。中性的自由基会进如反应腔室与待蚀刻晶圆进行反应。由于没有带电粒子，整个反应过程不会产生与带电粒子相关的损害。
是专业从事真空及大气等离子清洗机、等离子处理机、等离子刻蚀机、等离子去胶机、等离子灰化机、等离子表面处理机、等离子表面处理设备，微波等离子射频及微波等离子体技术研发、推广、销售于一体的高新技术企业，隶属于戈德尔等离子科技（香港）控股有限公司，总部设于香港 。
