对于光电器件、液晶显示器等设备，环氧附着力助剂可以使用真空等离子清洁器清洁表面。它还可以改善留在表面上的光刻胶、（有机）污染物、溢出的环氧树脂等。等离子清洗也是可能的。将会被使用。加工表层特性的机器。它不仅可以用于制造过程，还可以用于 FA 或 QA 实验室。真空等离子清洗机独特的设计理念，确保更好地清洗内部空间和均匀分布等离子。
6.半导体/LED器件：等离子体在半导体工业中的应用是以集成电路为基础的。各种组件和连接线都很精细。因此，环氧附着力助剂在制造过程中容易产生粉尘、有机物等污染。为了避免等离子体在制造过程中带来的问题，在后期的制造过程中引入等离子体设备进行预处理，并使用等离子体清洗机来更好地保护我们的产品。善用电气设备去除表面有机物和杂质。污染物会导致LED环氧注射成型过程中过快形成气泡，从而降低产品质量和使用寿命。
燃烧线圈提高了输出，环氧附着力助剂最重要的作用是提高运行时中低速时的扭矩；消除积碳，更好地保护发动机，延长发动机的使用寿命；延长；减少或消除发动机共振; 燃料完全燃烧，减少排放和许多其他功能。为了让焚烧炉盘管发挥最大的作用，它的质量、可靠性、使用寿命等要求都必须符合标准，但是在目前的焚烧炉盘管制造过程中，环氧树脂浇注在外面是一个很大的问题。
等离子体清洗机应用于光电半导体行业的封装，酚醛环氧邻甲酚环氧附着力其主要功能是防止封装分层，改善键合线质量，增加键合强度，提高可靠性，提高成品率，节约成本。干洗方式在去除污染物的同时不破坏芯片表面材料特性和导电特性，等离子清洗机的清洗方式不发生化学反应，清洗后的材料表面不留氧化物，可以很好地保留清洗后材料的纯度，保证材料的各向异性。
环氧附着力助剂
(2)朗缪耳探针(Langmuirprobe):朗缪耳探针可用来测试等离子中电子密度，电子能量等；常用于研究单位，早期多应用在真空等离子体密度量测，最近也有应用于大气等离子体的朗缪耳探针上市。跟光谱仪一样价格昂贵，知道及使用者不多。
等离子体放电过程中臭氧生成的基本原理是，氧分子被放电反应器中形成的低温等离子体气体中的含氧气体分解为氧原子，再通过三体碰撞反应形成臭氧分子，同时也发生臭氧分解反应。臭氧，化学式为O3，又称三原子氧、超氧化物，因有腥味而得名，常温下可自行还原为氧气。与氧气相比，它易溶于水，易分解。臭氧是由氧分子携带的一个氧原子组成的，这就决定了它只是处于暂时储存的状态。
一般认为，低温等离子设备按其体系的能量状态、温度和离子密度可分为高温等离子体和低温等离子体。前一类电离度接近1，各粒子温度基本相同，系统处于热力学不平衡状态，温度一般在5×104K以上，主要用于研究受控热核反应；而后一类粒子温度不同，电子温度远大于离子温度，系统处于热力学不平衡状态，宏观温度较低，一般气体放电产生的等离子体均属于这一类，它与现代工业生产密切相关。
（等离子表面处理设备）先要对塑料视窗部分进行等离子处理，因为选用等离子技能，使资料的外表功能提高，因而涂层散布愈加均匀，这不仅形成了无懈可击的产品外观，还大大下降了出产过程中的废品率。
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