然后电镀包含通孔的图案化迹线。这种技术的明显优势是它只需要一次成像操作。但是，小面积镀层测附着力缺点是巨大的，包括： 1) 总体迹线图案必须物理连接，以便始终执行电镀。如果电气连接中断，表面将不再电镀。 2) 这些痕迹会导致电流密度和分布不均匀，从而影响镀层厚度的一致性。 3) 与图案电镀工艺类似，所有走线都是镀铜的，这会导致灵活性和阻抗控制问题。 4) 细线迹会限制电流容量并可能导致电镀问题。
在电镀前，镀层测附着力外壳表面不可避免地形成各种污染物，包括灰尘、固体颗粒、有机物等，同时由于自然氧化，还存在氧化层。电镀前必须清洗被镀件表面，否则会影响镀层与基体的结合力，造成镀层剥落、起泡。为了去除这类污染物，采用甲苯、丙酮、酒精等有机溶剂进行超声波清洗。但一方面这种方法不彻底，容易造成涂层缺陷。另一方面增加了制造成本，造成环境问题。
通常采用机械方式，镀层测附着力使孔边和内孔壁无倒刺或堵孔的现象产生． 2．除油污 3.粗化处理：主要保证金属镀层与基体之间良好的结合强度。 4．活化处理：主要形成“引发中心”，使铜沉积均匀一致。
如果栅氧化区面积小，小面积镀层测附着力栅区面积大，大面积栅收集的离子会流向小面积栅氧化区。注入栅极的隧道电流也需要衬底来保持电荷平衡。随着这种增加，增加的因素是栅极的氧化面积与栅极的比值，损坏效应增加。这是一种称为“天线效应”的现象。对于栅极注入，隧穿电流和离子电流之和等于等离子体中的总电子电流。由于大电流，只要栅氧化层的场强可以产生隧穿电流而不增加天线的实用性，就会发生等离子体损坏。
镀层测附着力
...平带电压、漏电流等参数。具有天线器件结构的大面积离子收集区（多晶或金属）通常位于厚场氧化物上，因此只需考虑隧道电流对薄栅氧化物的影响。收集区的大面积称为天线，带天线的器件的隧穿电流放大系数等于厚场氧化物收集区面积与氧化层面积之比栅极氧化物。该面积称为天线比。如果栅氧化区面积小，栅区面积大，大面积栅收集的离子会流向小面积栅氧化区。注入栅极的隧道电流也需要衬底来保持电荷平衡。
如果栅氧区较小，而栅极面积较大，大面积栅极收集到的离子将流向小面积的栅氧区，为了保持电荷平衡，由衬底注人栅极的隧道电流也需要随之增加，增加的倍数是栅极与栅氧面积之比，增加了损伤效用，这种现象称为“天线效用”。对于栅注入的情况，隧道电流和离子电流之和等于plasma中总的电子电流。因为电流很大，即使没有天线的增加效用，只要栅氧化层中的场强能产生隧道电流，就会引起plasma损伤。
此外，材料的性质不同，其初始表面可以不同，反映的液滴角度数据也不同，一般来说，有机材料由于材料的不同，加工前后差异较大，而无机材料则通过等离子体处理去除表面油污和表面粗化，使水滴的数量角保持在较低水平。还需要注意的是，液滴角度测试需要对变量进行控制，即统一每个测试的液滴尺寸，确保测试用水量不发生显著变化。dyne笔测试法是一种成本低、测量快、操作简单的方法。
在蚀刻过程中，添加CHF3、N2、CH4等气体以快速形成聚合物并提供侧壁保护。这优先将氟、氮或碳氢化合物吸附到金属铝侧壁，进一步减少氯原子和铝侧壁。 壁接触反应以保护侧壁，增加氯基气体对金属铝的各向异性蚀刻能力。等离子工业清洗机研究了这三种不同气体对蚀刻后金属铝侧壁形态的影响。结果表明，N2保护气体在刻蚀过程中产生了过多的侧壁保护，并倾向于形成梯形侧壁。
小面积镀层测附着力
当样品放入反应室时，小面积镀层测附着力真空泵启动真空泵到一定程度，接通电源产生等离子体，气体通过反应室内的等离子体进入反应室，样品与volatile 产生的副产品。它由真空泵提取。真空等离子清洗机中的等离子在宏观水平上是电中性的。在正常情况下，等离子体是电中性的，但如果受到任何干扰，等离子体中的部分电荷就会分离出来，从而产生电场。
等离子清洗机不放电或放电不稳定，镀层测附着力往往是等离子发生器阻抗匹配出的情况。当等离子体发生器发射能量,如果反应腔和电极的阻抗(以下简称负载)不等于传输线的特性阻抗,它将反映在传输过程中,通过加热和部分能量散失和其他方面,而不是所有的能量都被负载的等离子体吸收的等离子清洗机。这将直接影响等离子体表面处理的效果。
