电磁式线圈通电后，揭阳等离子表面活化处理机动铁芯在电磁力作用下吸合，直接或通过杠杆驱动，使动触头与静触头接触，接通电路；电磁式线圈断电后，动铁芯自动回位，触头分离，常开熔点断开，常闭触点闭合。交流接触器的选择方法：在实际使用中，真空等离子表面处理机一般都是长时间连续运行，为了保证机器工作稳定，对设备质量要求较高的厂家一般在接触器的选择上，都会选择有质量保证的品牌产品。
等离子体改性高分子材料的方法主要有三种：一是对材料表面或极薄表面进行活化刻蚀；二是将处理后的表面活化并引入活性基团，表面活化二氧化硅再通过接枝的方法在原有表面形成许多支链，形成新的表层；第三，采用气相聚合物沉积在处理表面形成薄膜。在等离子体发生器中，除了电量相等的正负粒子外，还有许多化学活性物质和通过辐射耗散而发出的不同波长的光子。等离子体的能量可以通过光辐射、中性分子流和离子流作用于聚合物表面。
此外，表面活化二氧化硅值得一提的是，等离子体表面处理技术是一种安全（完整）环保的方法。等离子体是一种电离气体。它由电子组成，离子和中性粒子由三种成分组成，其中电子和离子的总电荷基本相等，因此整体是电中性的。在基底膜上镀铝之前，电离等离子体中的电子或离子被等离子体处理装置撞击在基底膜表面。一方面，材料的长分子链可以被打开，出现高能基团；另一方面，薄膜表面受到撞击后出现微小凹陷，同时表面的杂质可以解离和再解离。
WLP预处理的目的是去除无机物，揭阳等离子表面活化处理机减少氧化层，增加铜表面粗糙度，提高产品的可靠性。。等离子清洗机在线路板行业中的应用；等离子体刻蚀所用气体多为含氟气体，以四氟化碳为主。等离子清洗机蚀刻广泛应用于晶圆制造和电路板制造。在晶圆制造行业中的应用；在晶圆制造行业，光刻机使用四氟碳气体对硅片进行线刻蚀，等离子清洗机使用四氟碳气体对氮化硅进行刻蚀和光刻胶去除。
揭阳等离子表面活化处理机
与之相伴随的接触孔蚀刻技术的发展，65nm/55nm 技术节点之前均为光刻胶掩膜的氧化硅材料蚀刻，90nm时的接触孔蚀刻的步骤顺序为先去除光阻再蚀刻开接触孔停止层，而65nm/55nm时使用先蚀刻开接触孔停止层去除光阻的步骤顺序。由于90nm和65nm/55nm器件对关键尺寸的要求，基本不需要蚀刻工艺对接触孔的尺寸进行收缩。
等离子清洗机可以通过纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧气的配合，对晶圆制造中的氮化硅进行微米化碳与氧气或氢气的配合去除微米光刻胶。(2)线路板制造业的应用 等离子清洗机刻蚀在电路板制造行业应用尤其早，无论是硬电路板还是柔性电路板在生产过程中，传统工艺是使用化学清洗，但随着电路板行业的发展，电路板越来越小，孔越来越小，化学物质越来越难以控制，孔越小，也会造成化学残留，影响后期工艺技术。
等离子处理工艺可以配置为既适合大面积的快速处理，也适合轮廓粘合区域的细粒度和精确处理。与传统的火焰法不同，即使采用等离子表面处理机工艺进行预处理，对处理后的零件也几乎没有热效应，过度处理也不会导致产品变形或粘合强度下降。使用等离子表面处理机工艺进行表面处理的好处：即使在较大的产品表面上，也可以获得高效且均匀的表面活化。
随着PLC的发展和进步，真空、低压等离子表面处理机不断向自动化、智能化方向发展。智能化控制和操作，让更多人选择全自动等离子表面处理设备。真空等离子器具可分为半自动和在线两种。在线低压真空等离子设备的自动化程度大大提高，属于自动化等离子表面处理设备之一。事实上，半自动和在线等离子设备都是由PLC控制的，PLC和触摸屏之间通过通信传输数据。两种等离子设备的共同功能是数据采集精度高、可视化报警和维护。
表面活化二氧化硅
近年来，表面活化二氧化硅研究发现等离子清洗机表面处理机低温等离子体蚀刻不但可以形成所需的特殊材料结构，同时也可以在蚀刻的过程当中减少等离子体所产生的损伤(Plasma Induced Damage，PID)，进而可以相应地减少半导体后段蚀刻过程中产生的低介电常数材料损伤(Low-k Damage)。。
