什么是等离子清洗?
等离子清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”以达到去除物体表面污渍的目的,就反应机理来看,等离子清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残留物脱离表面。典型的等离子物理清洗工艺是氩气等离子清洗,氩气本身是惰性气体,等离子体的氩气不和表面发生反应,而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子化学清洗工艺是氧气等离子清洗,通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,从而去除表面的污染物。
什么是等离子体?
等离子体是部分电离的气体,是物质常见的固态、液态、气态以外的第四态,等离子体由电子、离子、自由基、光子以及其它中性粒子组成。由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易与固体表面发生反应。
等离子清洗的特点:
等离子清洗技术的最大特点是适用于各种基材类型的清洗,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。除此之外,等离子清洗还具有以下几个特点:①容易采用数控技术,自动化程度高;具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高;②正确的等离子清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证;③由于是在真空中进行,所以等离子体中的各种活性离子的自由程很长,他们的穿透和渗透能力很强,可以进行复杂结构的处理,包括夹层、细管和盲孔;④等离子体作用过程是气—固相干式反应,不消耗水资源、无需添加化学试剂,对环境无残留物,具有绿色环保特征。因此,采用等离子清洗技术可以克服传统方法中的缺陷,使清洗更符合环保原则。
等离子清洗设备类型:
等离子清洗设备,一般分为真空等离子清洗机和常压等离子清洗机,常用的等离子清洗设备激发频率有三种:①超声等离子体为40kHz,②射频等离子体为13.56MHz,③微波等离子体为2.45GHz。
等离子清洗技术主要应用于:
(1)等离子刻蚀
在等离子刻蚀过程中,通过处理气体的作用,被刻蚀物会变成气相。处理气体和基体物质被真空泵抽出,表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来。通过等离子处理可以大大增加粘合润湿面积提高粘合强度。
(2)印刷电路板
●去孔内胶渣●镀铜前特氟隆表面活化●去除碳化物●功能电路板表面清洗
(3)金属表面去油及清洗
金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接和沉积涂覆前,需要通过等离子处理得到完全洁净和无氧化层的表面。
(4)塑料、玻璃和陶瓷表面活化及清洗
等离子清洗技术很适合处理胶接前的塑料、金属、陶瓷、玻璃等材料。处理时可以在原子级使表面粗糙化,从而提供更多的表面结合位置,改善粘合效果。同时,还可以通过等离子中的活性原子改变表面,从而在基体材料表面形成很强的化学键,可以浸润到缝隙中,极大地改善粘合性能,在有些应用中,结合力甚至可以提高50倍以上。
等离子清洗技术是一种新型的表面清洗技术,也是一种“绿色”的清洗技术。等离子清洗技术是利用等离子体内的高能粒子的活化作用,使得工件表面的待清洗层上的有机物、氧化物等污垢以及各种粒子发生一系列的物理化学反应,从而从清洗表面脱落或蒸发,从而达到清洗的作用。24312