其特征在于放电气体不与电极接触。高频放电利用高频电场通过电感或电容耦合对反应器中的气体进行放电以产生等离子体。最常用的频率是。由于其高能量和宽范围的射频单电极放电，电感耦合等离子体质谱法现在用于材料的表面处理和有毒废物的去除和裂解。 DBD等离子清洗是在两个放电电极之间填充某种工作气体，可以在一个或两个电极上覆盖绝缘介质，也可以将介质直接悬挂在放电空间中。
以下是超大规模集成电路制造中常用的几种等离子刻蚀机，电感耦合等离子体光源特点即电容耦合等离子刻蚀机（capacitively Coupled plasma，CCP）、电感耦合等离子刻蚀机（Inductively Coupled Plasma，ICP和变压器耦合等离子）、ICP和Transformer Coupled Plasma ）。
在多频电场的情况下，电感耦合等离子体质谱法高频电场主要起控制等离子体密度的作用，低频电场主要起控制离子冲击能量的作用。目前，半导体行业生产中主流的电容耦合等离子刻蚀机就是双频和多频电容耦合等离子刻蚀机。电容耦合蚀刻机的另一个特点是两个电区域不同。在电容耦合等离子体的情况下，具有小面积的电极由于自偏压而具有高电位差。 2、电感耦合等离子体设备：电感耦合等离子体设备是通过对反应室外的电磁线圈施加高频电压来进行的。
在反应室中，电感耦合等离子体质谱法快速变化的感应磁场在反应室中产生感应电场，其中第一个电子获得能量，然后是冷等离子体。电感耦合等离子体的电子绕磁力线运动，自由程比电容耦合机大，可以在较低的压力下激发等离子体。等离子体密度可以比电容耦合等离子体的密度高两个数量级左右，电离率可以达到1%～5%。等离子体的直流电势和离子冲击能量约为20-40V。与电容耦合等离子体相比，电感耦合等离子体的离子通量和离子能量可以更适当和独立地控制。
电感耦合等离子体质谱法
为了更好地控制离子冲击能量，通常将另一个射频电源电容耦合到衬底所在的晶片上。在感应放电过程中，线圈与电容驱动板级产生电容耦合元件。换言之，在产生等离子体的过程中，是由外部电源产生电压差。这等离子体密度和能量的独立控制是有害的。因此，一般在线圈和等离子体之间加一层静电屏蔽层，在不影响电感耦合的情况下滤除线圈的电容耦合分量。线圈布局对机器性能有重大影响，并且感应线圈设计通常因制造商而异。
在材料表面等离子清洗机灵活、强大、无故障，设计为 24/7 全天候运行以保护您的利润，因为它们可以处理性能和解决方案。等离子体表面活化剂的表面处理提高了半导体电子器件的抗压强度。目前，大部分主板控制芯片组采用这种封装工艺，且大多采用非金属材料。由于存储采用芯片电感工艺封装，存储体积不变，存储容量翻倍。片式电感的体积比OP小，散热和电气性能优良。
7、用途广泛，基本不受温度和污染物的影响，对异味和异味浓度有极好的分解效果，异味和异味去除率达到80～98%，处理后的气体异味浓度均达到国家标准。 8、主要特点： 以非甲烷总烃为例，色谱检测可能显示非甲烷总烃的去除率仅为45%，而异味、异味的去除率为90%。这是因为非甲烷总烃经过处理后，有些分子变成小分子，即使通过色谱法检测，也显示为非甲烷总烃。
他们的芯片是世界上最多的，是其中之一最好的新架构，”Hermann Hauser 说。 Graphcore除了得到行业大咖的背书，还凭借创新的特点获得了红杉资本等知名机构的投资。宝马、三星、微软、博世和戴尔等行业领先企业也在关注。自成立以来仅三年就筹集了 3.25 亿美元。
电感耦合等离子体光源特点
分子量污染物转化为简单的小分子安全物质，电感耦合等离子体质谱法或无味气体有害物质转化为无味无害气体。设备特点： 1.高效废气净化：本装置配备挥发性有机化合物（VOCs）、无机物、硫化氢、氨、硫醇等主要污染物。 2.无需添加物质。冷等离子废气处理是一种干法净化工艺，一种全新的净化工艺，运行过程中不需要额外的添加剂。没有废水或废渣。 ，不会导致二次污染。
纵观整个皮革行业，电感耦合等离子体质谱法冷等离子技术可能应用到以下几个方面： 1. 等离子表面处理在湿法处理中的应用 2. 等离子表面处理在鞣制过程中由于与胶原反应的侧链羧基数量有限而产生的空间位阻、相间距离、离子化等因素的应用。根据低温等离子表面处理装置的功能和特点，可以选择不同的等离子气体，选择性地改变胶原纤维表面化学成分的表面电荷。
