同时可清洗光学镜片、光学镜片、电子显微镜载玻片、载玻片等各种镜片。真空等离子清洗机性能稳定、性价比高、操作方便、成本低、维护方便。您可以修改具有不同几何形状和不同表面粗糙度的物体的表面，玻片亲水性物质清洗例如金属、陶瓷、玻璃、硅片和塑料，以去除样品表面的有机污染物。
等离子清洗剂的典型应用；线键合倒装芯片底部填充，玻片亲水性物质清洗器件封装和解封装光刻胶灰化、除渣、硅片清洗PDMS/微流控/玻片/芯片实验SEM/TEM样品中烃类污染物的去除改善金属与金属或复合材料的结合提高塑料、聚合物和复合材料的附着力等离子清洗机活化设备，用于电子行业的手机壳印刷、涂布、点胶等前处理，手机屏幕表面处理；清洁连接器表面；一般工业中的丝网印花和转移印花前处理。。
1、清洗光学器件、电子元件、清洗光学透镜、电子显微镜等透镜和载玻片，玻片亲水性不好去除光学元件、半导体元件等表面的光刻胶物质，清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体、宝石等;牙科领域:硅胶成型材料和钛牙移植体的预处理，增强其渗透性和相容性;3、医疗领域:修复牙移植体表面预处理，增强其渗透性、粘附性和相容性，对医疗器械的消毒灭菌;5、去除金属材料表面的氧化物;6、使玻璃、塑料、陶瓷、高分子等材料表面活化，增强表面附着力、渗透性、相容性;高分子材料表面改性。
本发明的主要特点是刻蚀均匀，玻片亲水性物质清洗不改变基体性质，能有效地使材料表层粗化，控制刻蚀。。真空等离子体清洗设备可清洗半导体元件、光学元件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基板、终端设备等，同时还可清洗光学镜片，清洗各种镜片和载玻片，如光学镜片、电镜载玻片等；真空等离子清洗机具有性能稳定、性价比高、操作简单、成本低、易于维护等特点。
玻片亲水性物质清洗
此外，聚合处理后，载玻片表面引入氮，其成分包括N-异丙基丙烯酞胺单体和高聚物。等离子体清洁机经过聚合方式得到N-异丙基丙烯酞胺聚合膜，借助温度控制装置和接触角测量仪测量聚合膜的热敏性，充分证明了聚N-异丙基丙烯酞胺的空间存在感。等离子体清洁机的材质处理技术已经充分应用于生产、生活等领域，相信其在其他领域的应用空间会更广。。
低温等离子体处理技术热敏聚合物涂层的等离子体聚合分析；等离子体技术广泛应用于生产、生活等领域。等离子体材料表面改性方便、清洁、不受环境干扰、不受材料种类限制。在等离子体聚合中，将N-异丙基丙烯邻苯二胺单体带入反应区，在载玻片和聚苯乙烯表面制备N-异丙基丙烯邻苯二胺聚合物。。
用接触角计测定了水、润滑油与硬脂酸在玻璃板上的接触角。经过一段时间的等离子射流清洗后，与水的接触角显著降低。扫描电镜也证实了其清洁效果。近年来，国际知名品牌手机都是玻璃作为面板，为了提高玻璃面板的强度和硬度，通常采用化学钢化，而且在化学钢化之前需要清洗，如果清洗不好，会影响增强效果。传统的清洗方法是先用洗涤剂擦洗，再用酸、碱和有机溶剂超声波清洗，工艺复杂，费时费力，而且造成污染。
等离子体在表面上反应不好，但表面被离子冲击清洁。典型的等离子化学清洗工艺是氧等离子清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，很容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性化合物，从而去除表面污染物。基于物理反应的等离子清洗，也称为溅射蚀刻 (SPE) 或离子铣削 (IM)，具有能够清洁表面并保留化学物质而不引起化学反应和不留下氧化物的优点。
玻片亲水性物质清洗
综上所述，玻片亲水性不好电镀起泡的成因主要有：由于前工序造成的沾污引起的外壳表面不清洁，而电镀前处理又未能将沾污物去除掉而产生起泡;在电镀前处理是，各工序的溶液、时间、温度控制不好或操作不当都会使外壳表面的沾污物不能去除干净而引起起泡;钎焊时外壳沾上的石墨微粒，指痕沾污等，用常规的前处理工艺是很难处理干净的，从而产生起泡;正镀镍溶液的杂质离子浓度随着被镀产品数量的增加而增加，使镀镍层的硬度增加，从而使镀镍层的应力增加，引发起泡。
7、金属行业：部分金属制口表面需要镀层，玻片亲水性不好未经过处理的表面贴合力不够，导致镀层不牢固，不均匀等现象，等离子清洗机的处理可增加金属表面附着力，提高表面均匀性，避免镀层不均匀，易脱落等问题8、PCB板BGA封装前表面清洗，打金线Wire＆Die Bonding前处理，EMC封装前处理：等离子清洗机提高布线/连线强度和信赖性。
